Fáinne Cumhdach SiC

Is fáinne graifíte é Fáinne Cumhdach Semicorex SiC atá brataithe le Silicon Carbide (SiC) atá deartha go sonrach le haghaidh déantúsaíocht leathsheoltóra nua-aimseartha. Roghnaítear Silicon Carbide as a chruas eisceachtúil, seoltacht theirmeach, agus friotaíocht ceimiceach, rud a fhágann gur ábhar brataithe idéalach é do chomhpháirteanna a úsáidtear i bpróisis epitaxy. Soláthraíonn an sciath SiC ciseal cosanta marthanach a fheabhsaíonn go mór fad saoil an struchtúir graifít bhunúsach, ag cinntiú feidhmíocht chomhsheasmhach thar thréimhsí fada oibríochta.

Roghnaítear an tsubstráit graifíte den Fháinne Cumhdach SiC go cúramach mar gheall ar a n-airíonna teirmeacha níos fearr agus a shláine struchtúrach, agus cuirtear an sciath SiC i bhfeidhm go cúramach chun banna gan uaim a chruthú, ag baint leasa as feidhmíocht an fháinne faoi choinníollacha foircneacha.

Buntáiste príomhúil amháin a bhaineann le Fáinne Cumhdach SiC ná a chumas cobhsaíocht tríthoiseach agus neart meicniúil a chothabháil faoi dhálaí foircneacha, rud a fhágann go bhfuil sé oiriúnach go maith do na timpeallachtaí ardteochta agus an-imoibríocha atá tipiciúil do phróisis fáis epitaxial. Feidhmíonn an sciath SiC mar bhac láidir, ag cosaint an tsubstráit graifíte ó ocsaídiú, creimeadh, agus díghrádú, rud atá ríthábhachtach chun éilliú a chosc agus íonacht na sliseog leathsheoltóra a chinntiú.

Ina theannta sin, cuidíonn seoltacht theirmeach den scoth Fáinne Coating SiC le teocht aonfhoirmeach a choinneáil ar fud dhromchla an wafer leathsheoltóra le linn an phróisis epitaxial, rud atá ríthábhachtach chun fás ciseal comhsheasmhach a bhaint amach agus cáilíocht agus feidhmíocht an fheiste leathsheoltóra deiridh a chinntiú. Cuidíonn an seoltacht ard teirmeach seo freisin le grádáin teirmeach a íoslaghdú, an baol lochtanna a laghdú, agus toradh iomlán an phróisis déantúsaíochta a fheabhsú.

Cuireann an Fáinne Cumhdach SiC friotaíocht iontach ar chaitheamh agus damáiste meicniúil mar gheall ar a dhromchla crua, atá in ann abrasion agus creimeadh a sheasamh le linn próiseála wafer. Leathnaíonn an marthanacht seo saolré an chomhpháirt, ag laghdú an gá atá le hathsholáthar agus ag íoslaghdú aga neamhfhónaimh déantúsaíochta. Mar thoradh air seo tá oibríocht níos cost-éifeachtaí agus níos éifeachtaí le costais chothabhála níos ísle agus táirgiúlacht mhéadaithe.

Chomh maith lena n-airíonna meicniúla agus teirmeacha, tá an Fáinne Cumhdach SiC támh go ceimiceach. Tá an sciath SiC an-resistant d'ionsaí ceimiceacha, fiú amháin i láthair na ngás creimneach agus na speiceas imoibríoch a úsáidtear go coitianta i bpróisis epitaxial. Tá an cobhsaíocht cheimiceach seo ríthábhachtach in epitaxy leathsheoltóra.

Is comhpháirt ardfheidhmíochta é Fáinne Cumhdach Semicorex SiC atá deartha chun freastal ar riachtanais éilitheacha epitaxy leathsheoltóra. Soláthraíonn an meascán de bhratú SiC marthanach agus foshraith chobhsaí graifíte airíonna teirmeacha, meicniúla agus ceimiceacha eisceachtúla. Ní hamháin go gcuireann an fáinne seo le héifeachtúlacht agus le hiontaofacht an phróisis epitaxy ach cuireann sé freisin le táirgeadh feistí leathsheoltóra ardchaighdeáin. Trí Fháinne Cumhdach SiC a roghnú, is féidir le monaróirí an fheidhmíocht is fearr, cothabháil laghdaithe, agus táirgiúlacht fheabhsaithe a chinntiú ina bpróisis déantúsaíochta leathsheoltóra.