Foirnéisí CVD a úsáidtear don phróiseas sil-leagan ceimiceach gaile (CVD). Is próiseas é deascadh gaile ceimiceach ina ndéantar scannán tanaí a thaisceadh ar fhoshraith ag baint úsáide as imoibriú ceimiceach idir gáis réamhtheachtaithe galaithe agus dromchla téite.
Is éard atá i bhfoirnéisí CVD de ghnáth ná seomra folúis, córas seachadta gáis, córas téimh, agus sealbhóir foshraithe. Úsáidtear an seomra folúis chun aer agus gáis eile a bhaint as an timpeallacht sil-leagan chun neamhíonachtaí a chosc ó chur isteach ar an bpróiseas sil-leagan. Seachadann an córas seachadta gáis na gáis réamhtheachtaithe chuig dromchla an tsubstráit áit a imoibríonn siad chun an scannán tanaí atá ag teastáil a dhéanamh. Déanann an córas teasa an tsubstráit a théamh go dtí an teocht is gá chun go dtarlóidh an t-imoibriú. Úsáidtear sealbhóir an tsubstráit chun an tsubstráit a choinneáil in áit le linn an phróisis sil-leagan.
Sa phróiseas CVD, tugtar na gáis réamhtheachtaithe isteach sa seomra folúis agus téitear iad go teocht ina ndíscaoileann siad agus ina n-imoibríonn siad chun scannán tanaí a dhéanamh ar an tsubstráit téite. Déantar teocht agus brú na timpeallachta taiscí a rialú go cúramach chun a chinntiú go mbaintear amach na hairíonna scannáin atá ag teastáil.
Úsáidtear foirnéisí CVD go forleathan sa tionscal leathsheoltóra chun scannáin tanaí a thaisceadh le haghaidh déantúsaíocht feistí micrileictreonacha, mar shampla ciorcaid chomhtháite agus cealla gréine. Úsáidtear iad freisin chun ard-ábhar a tháirgeadh, amhail bratuithe, snáithíní optúla, agus sársheoltóirí.