CVD Foirnéisí Taiscí Gaile Ceimiceacha

Déanann foirnéisí sil-leaganacha gal ceimiceach Semicorex CVD déantúsaíocht epitaxy ardcháilíochta níos éifeachtaí. Soláthraímid réitigh foirnéise saincheaptha. Tá buntáiste praghais maith ag ár bhfoirnéisí um thaisceadh gal ceimiceach CVD agus clúdaíonn siad an chuid is mó de mhargaí na hEorpa agus Mheiriceá. Táimid ag tnúth le bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Úsáidtear foirnéisí sil-leaganacha gal ceimiceach Semicorex CVD atá deartha le haghaidh CVD agus CVI chun ábhair a chur ar fhoshraith. Teochtaí an imoibriúcháin suas go dtí 2200°C. Comhordaíonn rialuithe mais-sreafa agus comhlaí modhnúcháin imoibreán agus gáis iompróra amhail N, H, Ar, CO2, meatán, teitreaclóiríd sileacain, meitile tríchlórasiléin, agus amóinia. I measc na n-ábhar a thaisceadh tá cairbíd sileacain, carbón pirealaíoch, nítríde bórón, seiléiníd since, agus suilfíd since. Tá struchtúir chothrománacha agus ingearacha araon ag foirnéisí sil-leagain gal ceimiceach CVD.

Feidhmchlár:Sciath SiC le haghaidh ábhar ilchodach C / C, sciath SiC le haghaidh graifít, sciath SiC, BN agus ZrC le haghaidh snáithín agus araile.

Gnéithe de foirnéisí um Sheiliceadh Gal Ceimiceach Semicorex CVD

Dearadh 1.Robust déanta as ábhair ardchaighdeáin le húsáid fhadtéarmach;

Seachadadh gáis rialaithe go beacht trí úsáid a bhaint as rialtóirí sreafa mais agus comhlaí ardteochta;

3.Equipped le gnéithe sábháilteachta cosúil le cosaint ró-teocht agus a bhrath sceitheadh gáis le haghaidh oibriú sábháilte agus iontaofa;

4.Using criosanna rialaithe teochta il, aonfhoirmeacht teocht mór;

Seomra taisce 5.Specially deartha le héifeacht séalaithe maith agus feidhmíocht frith-éillithe iontach;

6. Ag baint úsáide as bealaí taisce iolracha le sreabhadh gáis aonfhoirmeach, gan coirnéil marbh a thaisceadh agus dromchla sil-leagan foirfe;

7. Tá cóireáil aige ar an tarra, ar dheannach soladach, agus ar gháis orgánacha le linn an phróisis sil-leagan

Sonraíochtaí na Foirnéise CVD
Múnla	Méid an Chrios Oibre (W × H × L) mm	uas. Teocht (°C)	Teocht aonfhoirmeacht (°C)	Fholúis deiridh (Pa)	Ráta Méadaithe Brú (Pa/u)
LFH-6900-SiC	600×600×900	1500	±7.5	1-100	0.67
LFH-10015-SiC	1000×1000×1500	1500	±7.5	1-100	0.67
LFH-1220-SiC	1200×1200×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-1530-SiC	1500×1500×3000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-2535-SiC	2500×2000×3500	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D3050-SiC	300×500	1500	±5	1-100	0.67
LFV-D6080-SiC	600×800	1500	±7.5	1-100	0.67
LFV-D8120-SiC	800×1200	1500	±7.5	1-100	0.67
LFV-D11-SiC	1100×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D26-SiC	2600×3200	1500	±10	1-100	0.67

*Is féidir na paraiméadair thuas a choigeartú de réir riachtanais an phróisis, níl siad mar chaighdeán glactha, an tsonraíocht mhionsonraithe. a luafar sa togra teicniúil agus sna comhaontuithe.