Pláta Etch Sileacain le haghaidh Feidhmchláir Eitseála PSS

Is iompróir graifít ultra-íon ardchaighdeáin é Pláta Silicon Etch Semicorex le haghaidh Feidhmchláir Eitseála PSS atá deartha go sonrach le haghaidh fáis epitaxial agus próisis láimhseála wafer. Is féidir lenár n-iompróir timpeallachtaí crua, teocht ard, agus glanadh ceimiceach crua a sheasamh. Tá airíonna dáileadh teasa den scoth, seoltacht teirmeach ard, agus tá sé éifeachtach ó thaobh costais ag an pláta eitseála sileacain d'iarratais eitseála PSS. Úsáidtear ár gcuid táirgí go forleathan i go leor margaí Eorpacha agus Mheiriceá, agus táimid ag tnúth le bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Déantar Pláta Silicon Etch Semicorex le haghaidh Feidhmchláir Eitseála PSS do na feidhmchláir trealaimh eipiteaxy is déine. Is féidir lenár n-iompróir graifíte ultra-íon timpeallachtaí crua, teocht ard, agus glanadh ceimiceach crua a sheasamh. Tá airíonna dáileadh teasa den scoth ag an iompróir brataithe SiC, seoltacht ard teirmeach, agus tá sé éifeachtach ó thaobh costais.

Paraiméadair Pláta Sileacain Etch le haghaidh Feidhmchláir Eitseála PSS

Príomh-Sonraíochtaí Cumhdach CVD-SIC
Airíonna SiC-CVD
Struchtúr Criostail	FCC β céim
Dlús	g/cm³	3.21
Cruas	Vickers cruas	2500
Méid Grán	μm	2~10
Íonacht Cheimiceach	%	99.99995
Cumas Teasa	J kg- 1 K-1	640
Teocht sublimation	℃	2700
Neart Felexural	MPa (RT 4-point)	415
Modal Óg	Gpa (lúb 4pt, 1300 ℃)	430
Leathnú Teirmeach (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Seoltacht theirmeach	(W/mK)	300