Iompróir Eitseála PSS Brataithe SiC

Caithfidh iompróirí wafer a úsáidtear i bhfás epixial agus i bpróiseáil láimhseála sliseog teocht ard agus glanadh ceimiceach crua a sheasamh. Iompróir Eitseála PSS Brataithe Semicorex SiC a ndearnadh innealtóireacht shonrach air do na feidhmchláir éilitheacha trealaimh eiteaxy seo. Tá buntáiste praghais maith ag ár gcuid táirgí agus clúdaíonn siad go leor de na margaí Eorpacha agus Mheiriceá. Táimid ag tnúth le bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Ní hamháin do chéimeanna sil-leagan scannáin tanaí mar epitaxy nó MOCVD, nó próiseáil láimhseála sliseog mar eitseáil, soláthraíonn Semicorex Iompróir Eitseála PSS Brataithe SiC ultra-íon a úsáidtear chun tacú le sliseog. I plasma etch nó eitse tirim, cuirtear an trealamh seo, susceptors epitaxy, pancóg nó ardáin satailíte don MOCVD, faoi réir na timpeallachta taisce den chéad uair, agus mar sin tá ardteas ard agus friotaíocht creimeadh aige. Tá seoltacht ard teirmeach ag an Iompróir Eitseála PSS Brataithe SiC freisin, agus airíonna dáileadh teasa den scoth.

Úsáidtear iompróirí eitseála PSS (Substráit Sapphire Patterned) atá brataithe le SiC agus feistí LED (Dé-óid Astaithe Solais) á ndéanamh. Feidhmíonn an t-iompróir etch PSS mar shubstráit le haghaidh fás scannán tanaí nítríde Gailliam (GaN) a fhoirmíonn an struchtúr LED. Ansin baintear an t-iompróir etch PSS as an struchtúr LED ag baint úsáide as próiseas eitseála fliuch, ag fágáil taobh thiar de dhromchla patrún a chuireann le héifeachtúlacht eastóscadh solais an stiúir.

Paraiméadair Iompróra Eitseála PSS Brataithe le SiC

Príomh-Sonraíochtaí Cumhdach CVD-SIC
Airíonna SiC-CVD
Struchtúr Criostail	FCC Î² chéim
Dlús	g/cm³	3.21
Cruas	Vickers cruas	2500
Méid Grán	Î¼m	2~10
Íonacht Cheimiceach	%	99.99995
Cumas Teasa	J·kg-1 ·K-1	640
Teocht sublimation	℃	2700
Neart Felexural	MPa (RT 4 phointe)	415
Modal Óg	Gpa (coinne 4pt, 1300)	430
Leathnú Teirmeach (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Seoltacht theirmeach	(W/mK)	300

Gnéithe d'iompróir eitseála PSS Brataithe SiC ardíonachta

- Tá dlús maith ag an tsubstráit graifíte agus an ciseal chomhdhúile sileacain araon agus is féidir ról cosanta maith a imirt i dtimpeallachtaí oibre ardteochta agus creimneach.

- Tá maoile dromchla an-ard ag an súdóir brataithe cairbíde sileacain a úsáidtear le haghaidh fás criostail aonair.

- Laghdaigh an difríocht i gcomhéifeacht leathnú teirmeach idir an tsubstráit graifíte agus an ciseal chomhdhúile sileacain, feabhas a chur go héifeachtach ar an neart nascáil chun scoilteadh agus dílamadh a chosc.

- Tá seoltacht ard teirmeach ag an tsubstráit graifíte agus an ciseal chomhdhúile sileacain, agus tá airíonna dáileadh teasa den scoth.

- Leáphointe ard, friotaíocht ocsaídiúcháin teocht ard, friotaíocht creimeadh.