Pláta Iompróir Eitseála ICP

Is é Pláta Iompróir Eitseála ICP Semicorex an réiteach foirfe le haghaidh láimhseáil éilitheach wafer agus próisis sil-scannáin tanaí. Soláthraíonn ár dtáirge friotaíocht teasa agus creimeadh níos fearr, fiú aonfhoirmeacht teirmeach, agus patrúin sreabhadh gáis laminacha. Le dromchla glan agus réidh, tá ár n-iompróir foirfe chun sliseoga pristine a láimhseáil.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Soláthraíonn Pláta Iompróir Eitseála ICP Semicorex marthanacht agus fad saoil den scoth le haghaidh láimhseáil sliseog agus próisis sil-scannáin tanaí. Bródúil as ár dtáirge friotaíocht teasa agus creimeadh níos fearr, fiú aonfhoirmeacht teirmeach, agus patrúin sreabhadh gáis laminar. Le dromchla glan agus mín, cinntíonn ár n-iompróir láimhseáil optamach na sliseog pristine. A tharraingt siar teocht ard, glanadh ceimiceach, chomh maith le aonfhoirmeacht teirmeach ard.
Déan teagmháil linn inniu chun tuilleadh a fhoghlaim faoinár bPláta Iompróir Eitseála ICP.

Paraiméadair Phláta Iompróir Eitseála ICP

Príomh-Sonraíochtaí Cumhdach CVD-SIC
Airíonna SiC-CVD
Struchtúr Criostail	FCC β céim
Dlús	g/cm³	3.21
Cruas	Vickers cruas	2500
Méid Grán	μm	2~10
Íonacht Cheimiceach	%	99.99995
Cumas Teasa	J kg- 1 K-1	640
Teocht sublimation	℃	2700
Neart Felexural	MPa (RT 4 phointe)	415
Modal Óg	Gpa (lúb 4pt, 1300 ℃)	430
Leathnú Teirmeach (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Seoltacht theirmeach	(W/mK)	300