Córas Eitseála Plasma ICP do Phróiseas PSS

Roghnaigh Córas Eitseála Plasma ICP Semicorex do Phróiseas PSS le haghaidh próisis ardcháilíochta epitaxy agus MOCVD. Déantar ár dtáirge a innealtóireacht go sonrach do na próisis seo, rud a thairgeann teas níos fearr agus friotaíocht creimeadh. Le dromchla glan agus réidh, tá ár n-iompróir foirfe chun sliseoga pristine a láimhseáil.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Soláthraíonn Córas Eitseála Plasma ICP Semicorex do Phróiseas PSS friotaíocht teasa agus creimeadh den scoth le haghaidh láimhseáil sliseog agus próisis sil-scannán tanaí. Cuireann ár sciath criostail SiC fíneáil dromchla glan agus mín ar fáil, rud a chinntíonn an láimhseáil is fearr is féidir a dhéanamh ar sliseoga mar atá.

Ag Semicorex, dírímid ar tháirgí ardchaighdeáin, cost-éifeachtach a sholáthar dár gcustaiméirí. Tá buntáiste praghais ag ár gcóras eitseála plasma ICP do phróiseas PSS agus déantar é a onnmhairiú chuig go leor margaí Eorpacha agus Mheiriceá. Tá sé mar aidhm againn a bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach, ag seachadadh táirgí ardchaighdeáin comhsheasmhacha agus seirbhís eisceachtúil do chustaiméirí.

Déan teagmháil linn inniu chun tuilleadh a fhoghlaim faoinár gCóras Eitseála Plasma ICP do Phróiseas PSS.

Paraiméadair Chórais Eitseála Plasma ICP do Phróiseas PSS

Príomh-Sonraíochtaí Cumhdach CVD-SIC
Airíonna SiC-CVD
Struchtúr Criostail	FCC β céim
Dlús	g/cm³	3.21
Cruas	Vickers cruas	2500
Méid Grán	μm	2~10
Íonacht Cheimiceach	%	99.99995
Cumas Teasa	J kg- 1 K-1	640
Teocht sublimation	℃	2700
Neart Felexural	MPa (RT 4 phointe)	415
Modal Óg	Gpa (lúb 4pt, 1300 ℃)	430
Leathnú Teirmeach (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Seoltacht theirmeach	(W/mK)	300