Sealbhóir Wafer

Déantar Sealbhóir Wafer Semicorex a innealtóireacht go fonnmhar le croí déanta as graifít ard-íonachta agus atá brataithe go cúramach le Silicon Carbide (SiC) chun freastal ar riachtanais éilitheacha trealaimh Leachtacha Céim Epitaxy (LPE). Tá a thógáil agus a roghnú ábhar fíor-riachtanach chun sláine na sliseog a chothabháil le linn na bpróiseas ardteochta is gné dhílis de mhonarú leathsheoltóra.

Léiríonn an Sealbhóir Wafer graifíte atá brataithe le SiC friotaíocht sármhaith le caitheamh agus cuimilt, tréith ríthábhachtach chun na toisí beachta agus an caighdeán dromchla a theastaíonn le láimhseáil sliseog is fearr a choinneáil. I bpróisis LPE, tá sláine dhromchla an tSealbhóra Wafer ríthábhachtach, toisc go bhféadfadh aon díghrádú nó míchothromas a bheith mar thoradh ar lochtanna sa sliseag, rud a fhágann go dtiocfaidh táirgeacht níos ísle agus méadú ar dhramhaíl. Cinntíonn an sciath SiC go gcoimeádann an Sealbhóir Wafer dromchla réidh, cobhsaí thar thimthriallta arís agus arís eile, ag cur le hiontaofacht agus comhsheasmhacht iomlán an phróisis epitaxy.

Ina theannta sin, cuireann an sciath SiC le feidhmíocht theirmeach an tSealbhóra Wafer. Cinntíonn seoltacht ard teirmeach Silicon Carbide dáileadh fiú teasa ar fud an sliseog le linn an phróisis epitaxy, ríthábhachtach chun grádáin teirmeacha a chosc a d'fhéadfadh a bheith ina chúis le warping nó scoilteadh na sliseog. Ráthaíonn sé seo go gcomhlíonann na táirgí deiridh na caighdeáin cháilíochta déine a theastaíonn i ndéantúsaíocht leathsheoltóra. Cruthaíonn an meascán d’airíonna teirmeacha dúchasacha graifíte agus na buntáistí breise a bhaineann leis an sciath SiC Sealbhóir Wafer atá in ann na timpeallachtaí teirmeacha is dúshlánaí a sheasamh.

Tá dearadh an tSealbhóra Wafer optamaithe chun é a chur i bhfeidhm i dtrealamh LPE. Déantar an sealbhóir sliseog a mheaisíniú go beacht chun freastal ar na sliseog go daingean, rud a íoslaghdaíonn an baol gluaiseachta nó mí-ailínithe le linn an phróisis eiptaxy. Tá an cruinneas seo ríthábhachtach, toisc go bhféadfadh sil-leagan míchothrom a bheith mar thoradh ar fiú an t-athrú is lú i suíomh sliseog, rud a chuireann isteach ar fheidhmíocht na bhfeistí leathsheoltóra atá á ndéanamh. Soláthraíonn an Sealbhóir Wafer graifíte SiC-brataithe an chobhsaíocht riachtanach, ag cinntiú go bhfanann sliseog sa suíomh ceart ar feadh an phróisis ar fad.

                                                        Struchtúr LEP, ó LPE