Bád Pedestal Sileacain

Is iompróir wafer ultra-ghlan é Semicorex Silicon Pedestal Boat a innealtóireacht le íonacht ard agus cruinneas chun tacú le próisis leathsheoltóra ardteochta, mar shampla ocsaídiú, idirleathadh, agus LPCVD (Taisceadh Gal Ceimiceach Brú Íseal). Tá an t-iompróir sliseog seo déanta as 9N (99.9999999%)sileacain ard-íonachtachun glaineacht eisceachtúil, comhéifeacht teirmeach cobhsaíochta leathnaithe a áirithiú, agus cruinneas meicniúil le haghaidh tacaíochta wafer agus rialú próisis comhsheasmhach i dtimpeallachtaí ultra-ghlan.

De réir mar a leanann céimseataí feiste leathsheoltóra ag dul i laghad, ní raibh an t-éileamh ar chomhpháirteanna láimhseála sliseog ultra-ghlan agus comhoiriúnach go teirmeach riamh chomh mór sin. Tugann Bád Pedestal Sileacain aghaidh ar na héilimh seo le cruinneas ardtoiseach agus íonacht gan chomhoiriúnú le húsáid in ardchórais foirnéise a fheidhmíonn idir 1100°C agus 1250°C.

Is féidir an struchtúr bád sileacain a shaincheapadh chun freastal ar riachtanais an chustaiméara, lena n-áirítear cruth barra groove, fad fiacail groove, cruth, uillinn tilt, agus cumas luchtaithe iomlán wafer. Is féidir le báid sileacain ardteochta an damáiste teagmhála do sliseog sileacain a laghdú go héifeachtach, ag feabhsú toradh próisis. Ní thacaíonn a dhearadh ardteochta "túir gan duillín" le sliseog ach ag barr na fiacaile tacaíochta. I gcomparáid le cairbíd sileacain, tá sileacain réasúnta níos lú crua, ag laghdú damáiste meicniúil do sliseog, rud a fheabhsú cáilíocht laitíse agus go héifeachtach costais táirgthe a laghdú.

Tá an bád pedestal ar fáil isileacain mhonacriostalach nó ilchriostalachchun rioscaí éilliúcháin a bhaineann le hábhair neamhshileacain a bhaint. Roinneann an t-ardán an comhdhéanamh ceimiceach céanna le sliseog a úsáidtear go gníomhach, rud a íoslaghdaíonn imoibrithe nach dteastaíonn nó idirleathadh ian le linn próisis teocht ard. Laghdaíonn aonchineálacht ábhair go mór céannacht fhisiciúil na gcáithníní agus na n-eisíontais mhiotalacha le haghaidh ardchaighdeáin comhsheasmhachta wafer agus táirgeacht ard gléas trí thimthriallta táirgeachta arís agus arís eile.

Tá sliotáin sliseog deartha go beacht ag Bád Pedestal Silicon Semicorex, in éineacht le struchtúir tacaíochta ingearacha, ag cinntiú go bhfanann sliseog ailínithe agus spásáilte go foirfe le linn an timthriall teasa. Tá a chobhsaíocht tríthoiseach den scoth, rud a chinntíonn nach mbeidh an bád coisbheart dlúth, ag lúbadh nó ag athrú teochtaí foircneacha, ag soláthar do theocht mhaith agus dáileadh gáis thar gach sliseog. Tá éifeacht láithreach, dhearfach ag an gcobhsaíocht tríthoiseach seo ar aonfhoirmeacht thiús scannáin le linn ocsaídiúcháin agus idirleata agus déanann sé foráil do chomhaireamh lochtanna níos ísle chomh maith le hintrialltacht próisis níos fearr.

Is é príomhbhuntáiste an bhád pedestal sileacain ná a chuid airíonna meicniúla agus teirmeacha optamaithe. Cabhróidh cruas sileacain i gcomparáid le SiC nó Grianchloch le giniúint micrea-scratáilte agus cáithníní a ísliú mar gheall ar chreathadh nó gluaiseacht wafer le linn leathnú téite. Tá sé seo fíor go háirithe i gcás sliseog atá íogair don chúl, áit a bhfuil sláine an dromchla sliseog ríthábhachtach maidir le táirgeacht agus feidhmíocht gléas.

Tá seoltacht theirmeach maith ag an mbád pedestal agus comhéifeacht íseal leathnaithe teirmeach a sholáthraíonn tréithe aistrithe teasa agus cruth agus fuaimiúlacht struchtúrach a chothabháil le timthriallta teasa agus fuaraithe iolracha. Soláthraíonn an dearadh láidir freisin do shaolré fada le dífhoirmiúchán íosta trí choinníollacha foirnéise foircneacha.

Soláthraíonn Semicorex dearaí saincheaptha d'éagsúlacht cumraíochtaí trealaimh, lena n-áirítear trastomhas wafer, comhaireamh sliotán, airde pedestal, agus éagsúlachtaí céimseata. Déantar iniúchadh ar gach táirge le haghaidh íonachta, tomhaiste tríthoiseach, agus tástáil le haghaidh seoltacht theirmeach, go léir chun na caighdeáin is airde sa phróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra a chomhlíonadh.

Tá Bád Pedestal Sileacan ag luí le próisis ocsaídiúcháin agus idirleata chomh maith le LPCVD agus iarratais annealing a éilíonn aonfhoirmeacht teocht gan sárú agus rialú éillithe. Tá Bád Silicon Pedestal ag luí le comhpháirteanna foirnéise sileacain eile cosúil leis an bhfeadán injector, feadán línéaraigh, agus iompróir wafer, ábhar agus meaitseáil teirmeach a chothabháil ar fud an chórais phróiseála.