Paddle Ceirmeach SiC

Is cuid chun cinn é paddle ceirmeach Semicorex SiC a forbraíodh le haghaidh feidhmeanna foirnéise leathsheoltóra ardteochta mar ocsaídiú agus idirleathadh. Feidhmíonn an paddle mar thacaíocht cantilever chun na sliseog a choinneáil agus a bhogadh ag teochtaí arda. Tugann an paddle ceirmeach Semicorex SiC comhpháirteanna ceirmeacha ard-íonachta, ard-neart do phróisis ardteochta a éilíonn iontaofacht, cobhsaíocht, agus feidhmíocht éilitheach tríd an bpróiseas táirgthe.

Déantar na paddles a tháirgeadh ó ard-íonachtcairbíd sileacain (SIC), arna cheapadh go sonrach chun timpeallachtaí diana teirmeacha agus ceimiceacha de phróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra a sheasamh. Nuair a dhéileáiltear le sliseog trí ocsaídiú agus idirleathadh, tá an wafer faoi lé teochtaí níos airde ná 1000 céim C, chomh maith le gáis imoibríocha ar nós ocsaigine, gaile nó atmaisféir dopant. Ag na teochtaí seo, beidh sláine struchtúrach ag brath ar íonacht an ábhair.

Tréith thábhachtach eile de phaddles ceirmeacha SiC ná a bhfeidhmíocht iontach ag teochtaí arda. Mar gheall ar leáphointe SiC de 2700+C, coinníonn na paddles neart agus cobhsaíocht mheicniúil nuair a bhíonn siad faoi lé ardteochta

préacháin le himeacht ama. Cuireann an mhaoin theirmeach teorainn le warping agus scoilteadh an ábhair le linn timthriallta teasa agus fuaraithe arís agus arís eile agus saol seirbhíse fada a sholáthar i dtimpeallachtaí táirgthe.

Éilíonn próiseáil leathsheoltóirí timpeallacht ultra-ghlan toisc go bhféadfadh fiú rianmhéideanna eisíontais tionchar a imirt ar thoradh agus ar iompar feistí. Tá sciath SiC arna thaisceadh go ceimiceach (CVD) ag an ábhar SiC a úsáidtear sna paddles a chothaíonn íonacht ábhair atá thar a bheith ard agus éilliú miotalach a íoslaghdú. Fanann an paddle ceirmeach SiC glan agus cobhsaí ar feadh a saolré ar fad. Mar thacaí cantilever, ní mór do na paddles tacaíocht shlán a sholáthar d'iompróirí sliseog nó do bháid le linn iad a chur isteach agus a bhaint as an bhfoirnéis. Mar gheall arSiCLe neart agus rigidity dúchasach, tá dea-airíonna ualachiompartha acu le sraonadh íosta, rud atá riachtanach do láimhseáil agus ailíniú ceart wafer. I bhfoirnéisí ocsaídiúcháin agus idirleata, is féidir le atmaisféir creimneach ábhair thraidisiúnta a ionsaí agus a dhíghrádú le himeacht ama, ach tá sé de chumas ag SiC a chobhsaíocht cheimiceach a chothabháil, ag leathnú saolré inúsáidte an stuáil. Mar thoradh air seo laghdaítear costais chothabhála agus athsholáthair go mór, ós rud é nach gá na padáin a athsholáthar nó a dheisiú chomh minic céanna.

Le neart agus rigidity dúchasach, tá dea-airíonna ualachiompartha acu le sraonadh íosta, rud atá riachtanach do láimhseáil agus ailíniú ceart wafer. I bhfoirnéisí ocsaídiúcháin agus idirleata, is féidir le atmaisféir creimneach ábhair thraidisiúnta a ionsaí agus a dhíghrádú le himeacht ama, ach tá sé de chumas ag SiC a chobhsaíocht cheimiceach a chothabháil, ag leathnú saolré inúsáidte an stuáil. Mar thoradh air seo laghdaítear costais chothabhála agus athsholáthair go mór, ós rud é nach gá na padáin a athsholáthar nó a dheisiú chomh minic céanna.

criadóireacht SiCIs ábhair riachtanacha iad paddles, lena meascán d'íonacht ard, cobhsaíocht theirmeach, neart meicniúil, agus friotaíocht ceimiceach, i bpróisis ocsaídiúcháin agus idirleata leathsheoltóra. Trí ardán cobhsaí, glan a sholáthar le haghaidh aistriú wafer, cuireann siad go díreach le toradh feabhsaithe, comhsheasmhacht próisis, agus le héifeachtúlacht déantúsaíochta foriomlán.