Pláta le haghaidh Fáis Epitaxial

Seasann an Pláta Semicorex d’Fhás Eipítacsach mar eilimint chriticiúil atá deartha go sonrach chun freastal ar chasta na bpróiseas epitaxial. Inoiriúnaithe chun sonraíochtaí agus sainroghanna ar leith a chomhlíonadh, soláthraíonn ár dtairiscint réiteach atá saincheaptha ina n-aonar a oireann do do riachtanais oibriúcháin uathúla gan uaim. Cuirimid raon roghanna saincheaptha ar fáil, ó athruithe méide go héagsúlachtaí san fheidhmchlár brataithe, rud a chuireann ar ár gcumas táirge a innealtóireacht agus a sholáthar atá in ann feidhmíocht a fheabhsú thar chásanna éagsúla feidhmchláir. Táimid ag Semicorex tiomanta do Plátaí ardfheidhmíochta um Fhás Epitaxial a mhonarú agus a sholáthar a chomhcheanglaíonn cáilíocht le cost-éifeachtúlacht.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Tá an Pláta Semicorex le haghaidh Fáis Eipidaxial, atá Innealtóireacht le haghaidh an tasc beacht chun tacú le sliseog leathsheoltóra le linn foirmiú ciseal epitaxial, fíor-riachtanach laistigh de chórais Miotail-Orgánach um Thaisceadh Gaile Ceimiceach (MOCVD). Is é an ról straitéiseach atá aige ná leathnú cothrom agus rialaithe na scannán epitaxial a éascú, ag cinntiú cáilíocht chomhsheasmhach ar fud an dromchla sliseog.

1. Crafted le marthanacht i gcuimhne, soláthraíonn an Pláta le haghaidh Fás Epitaxial ardán seasta a laghdaíonn an dóchúlacht go dtarlóidh gluaiseacht wafer nó damáiste, rud a chosnaíonn sláine na sliseog le linn na gcéimeanna íogair d'fhorbairt scannán epitaxial. Feidhmíonn an Pláta le haghaidh Fáis Epitaxial ní hamháin mar thacaíocht ach freisin mar sciath don graifít bhunúsach ó imoibrithe ceimiceacha ionsaitheach agus caitheamh a d'fhéadfadh tarlú le linn epitaxy.

2. Feabhsaíonn ionchorprú sciath SiC ar an bPláta le haghaidh Fás Epitaxial go mór a n-airíonna teirmeacha, rud a chuireann ar chumas scaipeadh teasa tapa agus cothromaithe atá riachtanach le haghaidh foirmiú ciseal epitaxial aonfhoirmeach. Cinntíonn cumas an Pláta le haghaidh Fáis Eipiteacsach teas a ionsú agus a astú go haonfhoirmeach timpeallacht atá cobhsaí go teirmeach a chuidíonn le sil-leagan beacht scannán tanaí - fachtóir riachtanach chun sraitheanna epitaxial de chaighdeán níos fearr a tháirgeadh, ar a bhfuil éifeachtúlacht agus iontaofacht ard-leathsheoltóirí ag brath.

3. Featuring sciath de chriostail SiC fíneáil, cuireann an Pláta le haghaidh Fás Epitaxial dromchla flawlessly mín atá ríthábhachtach do láimhseáil íogair na sliseog. Laghdaíonn an comhéadan pristine seo aon éilliú dromchla a d’fhéadfadh a bheith ann de réir mar a dhéanann sliseoga teagmháil fhairsing ar fud an Pláta le haghaidh Fáis Eipítéiseach le linn an phróisis.

Go hachomair, geallann giaráil an Phláta Semicorex d'Fhás Epitaxial feidhmíocht sheasmhach agus saol seirbhíse leathnaithe, ag cur srian le minicíocht na riachtanas athsholáthair. Ardaíonn an Pláta le haghaidh Fáis Eipidaxial caighdeán an aschuir go suntasach, rud a laghdaíonn aga neamhfhónaimh oibriúcháin agus costais chothabhála agus ag cur le héifeachtacht táirgthe ag an am céanna.**