Téitheoir Próiseas Wafer

Tá Téitheoir Próiseas Wafer Semicorex déanta ag graifít Cumhdach Carbide Sileacain (SiC), cuirtear an sciath i bhfeidhm trí mhodh CVD ar ghráid shonracha graifít ard-dlúis, ionas gur féidir é a oibriú san fhoirnéis ardteochta le níos mó ná 3000 ° C in atmaisféar támh, 2200°C i bhfolús.
Ceadaíonn airíonna speisialta agus mais íseal ábhar Téitheoir Próiseas Wafer rátaí téimh tapa, dáileadh teocht aonfhoirmeach agus cruinneas gan íoc i gceannas. I gcomparáid le hábhar eile fanann dromchla Silicon Carbide cothrom mar gheall ar a leathnú teirmeach íseal fiú nuair a oibríonn sé le hathruithe tapa ar theocht. Tá na plátaí te an-oiriúnach do phróisis éilitheacha i gcórais phróiseála leathsheoltóra.
Ag Semicorex, dírímid ar tháirgí ardchaighdeáin, cost-éifeachtach a sholáthar dár gcustaiméirí. Tá buntáiste praghais ag ár dTéitheoir Próiseas Wafer agus déantar é a onnmhairiú chuig go leor margaí Eorpacha agus Mheiriceá. Tá sé mar aidhm againn a bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach, ag seachadadh táirgí ardchaighdeáin comhsheasmhacha agus seirbhís eisceachtúil do chustaiméirí.

Paraiméadair Téitheoir Próiseas Wafer

Gnéithe Téitheoir Próiseas Wafer

- Bratuithe CVD SiC chun saol na seirbhíse a fheabhsú.
- Is féidir le friotaíocht teocht ard, friotaíocht creimeadh, saol seirbhíse fada, cáilíocht agus toradh wafer a fheabhsú.
- Tá comhéifeacht an-íseal de leathnú teirmeach aige, friotaíocht teocht ard, friotaíocht ard-chaitheamh, insliú maith, cobhsaíocht mhaith ceimiceach, agus treá solais infheicthe gar-corcra (dearg).

Is féidir linn breogán graifíte frith-ocsaídiúcháin agus saoil fhada, múnla graifíte agus gach cuid de théitheoir graifíte a sholáthar.