Pláta Eitseála ICP Silicon Carbide

Pláta Eitseála ICP Silicon Carbideinniúil ar thacaíocht chobhsaí agus ar shuíomh beacht do sliseog a sheachadadh sna hoibríochtaí eitseála, rud a chosc go héifeachtach laghduithe ar chruinneas eitseála de bharr creathadh nó díláithrithe.

Tá Silicon Carbide ICP Etching Plate cumais bhainistíochta teirmeach.Seoltacht teirmeach Super deSIC ceirmeachTugann Pláta Eitseála ICP Silicon Carbide an cumas teas a scaipeadh go tapa, rud a chabhraíonn le cosc ​​a chur ar róthéamh áitiúil an phíosa oibre agus aonfhoirmeacht an teocht eitseála a chinntiú, rud a fheabhsóidh cáilíocht an eitseála. Tá comhéifeacht íseal leathnaithe teirmeach ag criadóireacht SiC, rud a ligeann do Phláta Eitseála ICP Silicon Carbide cobhsaíocht mhaith tríthoiseach a choinneáil agus dí-áitiú nó dífhoirmiú an workpiece de bharr leathnú teirmeach a laghdú.

Ag brath ar a n-airíonna cruas agus neart den scoth, léiríonn Pláta Eitseála ICP Silicon Carbide an cumas an strus meicniúil agus an tionchar plasma a fhulaingt le linn an phróisis eitseála a fhulaingt le dífhoirmiú nó damáiste íosta. Feabhsaíonn an cumas seo go héifeachtach toradh agus éifeachtúlacht táirgthe feistí leathsheoltóra.

Éilíonn timpeallacht oibriúcháin an ICP glaineacht ar leibhéal leathsheoltóra. Is féidir le Pláta Eitseála ICP Silicon Carbide Semicorex an riachtanas seo a chomhlíonadh go hiomlán, ag seachadadh friotaíocht eisceachtúil do na gáis cheimiceacha (cosúil le clóirín agus fluairín) agus plasma timpeallachtaí eitseála ICP. Coinníonn an ghné shuntasach seo timpeallacht an phróisis glan trí laghdú a dhéanamh ar an méid ábhar salaithe a scaoiltear le linn oibríochtaí eitseála.

Tugann Semicorex tosaíocht d’áisiúlacht na n-úsáideoirí, ag tairiscint dearaí saincheaptha de Phláta Eitseála ICP Silicon Carbide a chomhtháthaíonn gan uaim le córais eitseála ICP atá ann cheana féin agus atá comhoiriúnach le cumraíochtaí éagsúla. Ligeann sé seo aistriú rianúil, rud a fhágann gur réiteach uasghrádaithe idéalach é do mhonaróirí trealaimh.