Filament Téamh SiC

Is eilimint teasa nuálach é Semicorex SiC Heating Filament, eilimint téimh ardfholús a forbraíodh le haghaidh próiseáil wafer i ndéantúsaíocht leathsheoltóra nua, atá deartha lecroí graifítagus ard-íonachtasciath chomhdhúile sileacain. Fostaíonn an filament speisialta seoltacht theirmeach an graifít agus marthanacht agus cosaint SiC, rud a fhágann go bhfuil téitheoir cobhsaí agus éifeachtach ó thaobh fuinnimh le himeacht ama. Tá an Filament Téamh SiC deartha chun sliseog a théamh go haonfhoirmeach agus sonraíocht a bhaint amach, rud a fhágann gur comhpháirt den scoth é do phróiseáil leathsheoltóra ardteochta, mar shampla epitaxy, idirleathadh agus annealing.

Déantar an Filament Téamh SiC le graifít ard-íonachta mar gheall ar airíonna teirmeacha grafite agus airíonna leictreacha cáilíochta. Soláthraíonn graifít an phríomhfheidhm teasa a chumasaíonn freagairt thapa agus téamh éifeachtach faoi ualach leictreach. Cosnaíonn an sciath dlúth ard-íonachta SiC an filiméad ó fhoinsí truaillithe féideartha. Cosnaíonn an sciath SiC an wafer ó éilliú ceimiceach, agus leathnaíonn ocsaídiú, chomh maith le cáithníní sa seomra, saolré úsáideach na filament, agus cruthaíonn sé timpeallacht ghlan seomra.

Príomhcháilíocht den Fhiliméad Téimh SiC is ea an cumas téamh aonfhoirmeach an wafer a sheachadadh. D'fhéadfadh lochtanna nó toradh caillte a bheith mar thoradh ar éagsúlachtaí teochta trasna na sliseog. Tá seoltacht theirmeach den scoth ag Filament Téamh SiC agus cinntíonn dearadh soladach an fhiliméid go mbeidh an teas cobhsaí agus níos comhionann, rud a chuireann teorainn le grádáin teirmeach le haghaidh rialú iomlán próisis.

Tá Filament Téamh SiC saincheaptha, is féidir luach friotaíochta leictreach gach filament a shaincheapadh dá uirlis phróisis agus dá thimpeallacht oibriúcháin. Ceadaíonn an saincheaptha seo do theicneolaíocht chomhdhúile sileacain luach friotaíochta céimseata filiméid, tiús sciath, agus airíonna ábhair a rialú. Is féidir le Filament Téimh SiC go leor dearaí foirnéise éagsúla a fheistiú le go leor méideanna éagsúla wafer agus oidis phróisis. Tá sé seo fabhrach go háirithe do mhonaróirí leathsheoltóra, toisc go gceadaíonn sé do phróisis reatha oibriú ar bhealach níos éifeachtaí agus go gcoimeádann sé comhoiriúnacht leis na córais atá i bhfeidhm cheana féin.  Is é an tríú gné feidhmíochta marthanacht. I bpróisis leathsheoltóra teocht ard, tá an eilimint téimh nochta do thimpeallachtaí ceimiceacha an-ionsaitheach agus timthriall teirmeach arís agus arís eile.

Clúdaíonn feidhmeanna Filament Téimh Semicorex SiC raon leathan de phróisis monaraithe feiste leathsheoltóra. Le linn fás epitaxial, mar shampla, soláthraíonn an eilimint téimh teocht substráit cobhsaí agus aonfhoirmeach chun scannáin criostalach ardchaighdeáin a thaisceadh.