Suimitheoir Bairille Brataithe SiC le haghaidh Fáis Eipiteataigh

Leis an dlús níos fearr agus a seoltacht theirmeach, is é an Susceptor Bairille Brataithe Semicorex SiC le haghaidh Fás Epitaxial an rogha iontach le húsáid i dtimpeallachtaí ardteochta agus creimneach. Brataithe le SiC ard-íonachta, soláthraíonn an táirge graifít seo cosaint agus dáileadh teasa den scoth, ag cinntiú feidhmíocht iontaofa agus comhsheasmhach in iarratais déantúsaíochta leathsheoltóra.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Is é an Susceptor Bairille Brataithe Semicorex SiC le haghaidh Fás Epitaxial an rogha iontach le haghaidh foirmiú ciseal epixial ar sliseoga leathsheoltóra, a bhuíochas dá seoltacht theirmeach den scoth agus airíonna dáileadh teasa. Soláthraíonn a sciath chomhdhúile sileacain cosaint níos fearr fiú sna timpeallachtaí ardteochta agus creimneach is déine.

Ag Semicorex, dírímid ar tháirgí ardchaighdeáin, cost-éifeachtach a sholáthar dár gcustaiméirí. Tá buntáiste praghais ag ár Susceptor Bairille Brataithe SiC le haghaidh Fás Epitaxial agus déantar é a onnmhairiú chuig go leor margaí Eorpacha agus Mheiriceá. Tá sé mar aidhm againn a bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach, ag seachadadh táirgí ardchaighdeáin comhsheasmhacha agus seirbhís eisceachtúil do chustaiméirí.

Paraiméadair an tSochaid Bairille Brataithe SIC le haghaidh Fáis Eipiteataigh

Príomh-Sonraíochtaí Cumhdach CVD-SIC
Airíonna SiC-CVD
Struchtúr Criostail	FCC β céim
Dlús	g/cm³	3.21
Cruas	Vickers cruas	2500
Méid Grán	μm	2~10
Íonacht Cheimiceach	%	99.99995
Cumas Teasa	J kg- 1 K-1	640
Teocht sublimation	℃	2700
Neart Felexural	MPa (RT 4 phointe)	415
Modal Óg	Gpa (lúb 4pt, 1300 ℃)	430
Leathnú Teirmeach (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Seoltacht theirmeach	(W/mK)	300

Gnéithe de Susceptor Bairille Brataithe SiC le haghaidh Fás Epitaxial

- Tá dlús maith ag an tsubstráit graifíte agus an ciseal chomhdhúile sileacain araon agus is féidir ról cosanta maith a imirt i dtimpeallachtaí oibre ardteochta agus creimneach.

- Tá maoile dromchla an-ard ag an sopóir brataithe cairbíde sileacain a úsáidtear le haghaidh fás criostail aonair.

- Laghdaigh an difríocht i gcomhéifeacht leathnú teirmeach idir an tsubstráit graifíte agus an ciseal chomhdhúile sileacain, feabhas a chur go héifeachtach ar an neart nasctha chun scoilteadh agus dílamadh a chosc.

- Tá seoltacht ard teirmeach ag an tsubstráit graifíte agus an ciseal chomhdhúile sileacain, agus tá airíonna dáileadh teasa den scoth.

- Leáphointe ard, friotaíocht ocsaídiúcháin teocht ard, friotaíocht creimeadh.