SiC Ceirmeach Chuck

Tá Semicorex SiC Ceramic Chuck déanta as ceirmeach chomhdhúile sileacain (SiC) agus tá ardmheas air as a fheidhmíocht den scoth i dtimpeallacht dhúshlánach déantúsaíochta leathsheoltóra. Tá criadóireacht chomhdhúile sileacain ar eolas mar gheall ar a gcruasacht eisceachtúil, seoltacht theirmeach, agus friotaíocht ceimiceach, atá ríthábhachtach le haghaidh epitaxy leathsheoltóra. Le linn epitaxy, déantar sraith tanaí d'ábhar leathsheoltóra a thaisceadh go beacht ar fhoshraith, céim ríthábhachtach i dtáirgeadh feistí leictreonacha ardfheidhmíochta. Feidhmíonn an Chuck Ceirmeach SiC mar chuck bhfolús le linn an phróisis seo, ag coinneáil an wafer i bhfeidhm go daingean le greim láidir, cobhsaí lena chinntiú go bhfanann an sliseag réidh agus ina stad. Is féidir le criadóireacht SiC teochtaí arda a sheasamh gan dífhoirmiú, rud a fhágann go bhfuil siad oiriúnach do phróisis epitaxial a mbíonn teocht os cionn 1000 ° C i gceist leo go minic. Cinntíonn an chobhsaíocht ard teirmeach seo gur féidir leis an SiC Ceramic Chuck a shláine struchtúrach a choimeád agus greim iontaofa a sholáthar ar an sliseog, fiú faoi choinníollacha foircneacha. Ina theannta sin, ceadaíonn seoltacht theirmeach den scoth SiC dáileadh teasa tapa agus aonfhoirmeach ar fud an Chuck ceirmeacha SiC, ag íoslaghdú grádáin teirmeacha a d'fhéadfadh lochtanna sa chiseal epitaxial a bheith mar thoradh air.

Tá ról ríthábhachtach ag friotaíocht ceimiceach chomhdhúile sileacain freisin ina fheidhmíocht mar Chuck Ceirmeach SiC i ndéantúsaíocht leathsheoltóra. Is minic a bhaineann próisis epitaxial le húsáid gáis imoibríocha agus timpeallachtaí ceimiceacha ionsaitheach, ar féidir leo ábhair a chreimeadh nó a dhíghrádú le himeacht ama. Mar sin féin, cinntíonn friotaíocht láidir SiC in aghaidh ionsaí ceimiceacha gur féidir leis an chuck na coinníollacha crua seo a sheasamh, ag soláthar marthanacht fhadtéarmach agus ag cothabháil a saintréithe feidhmíochta thar timthriallta táirgthe iolracha.

Ina theannta sin, déanann airíonna meicniúla criadóireacht SiC, mar a n-ard-chruas agus a gcomhéifeacht íseal leathnaithe teirmeach, iad iontach d'fheidhmchláir bheachtais cosúil le chucks bhfolús. Cinntíonn an cruas ard go bhfuil an chuck resistant a chaitheamh agus damáiste, fiú le húsáid arís agus arís eile, agus cuidíonn an leathnú teirmeach íseal cobhsaíocht tríthoiseach a choimeád ar fud raon teochta leathan. Tá sé seo tábhachtach go háirithe i ndéantúsaíocht leathsheoltóra, áit a bhféadfadh mí-ailíniú nó lochtanna sa chiseal epitaxial a bheith mar thoradh ar athruithe fiú nóiméad ar thoisí an chuck.

Ionchorpraíonn dearadh an SiC Ceramic Chuck gnéithe a fheabhsaíonn a fheidhmíocht i dtimpeallachtaí folúis. Is féidir porosity dúchasach an ábhair a rialú go beacht le linn an phróisis déantúsaíochta, rud a ligeann do chucks a chruthú le méideanna sonracha pore agus dáileacháin a bharrfheabhsú an shealbhú folúis ar an wafer. Cinntíonn sé seo go gcoimeádtar an wafer go daingean, le dáileadh aonfhoirmeach fórsa a chuireann cosc ​​​​ar warping nó dífhoirmíochtaí eile a d'fhéadfadh dochar a dhéanamh do cháilíocht na ciseal epitaxial.

Dá bhrí sin tá Semicorex SiC Ceirmeach Chuck ina chuid riachtanach den phróiseas epitaxial leathsheoltóra, ag comhcheangal airíonna uathúla chomhdhúile sileacain le dearadh atá optamaithe le haghaidh beachtas agus marthanacht. Mar gheall ar a chumas teochtaí foircneacha a sheasamh, cur i gcoinne ionsaí ceimiceacha, agus greim cobhsaí a choinneáil ar an sliseog, is uirlis fhíorluachmhar é i dtáirgeadh feistí leathsheoltóra ardchaighdeáin. De réir mar a leanann an t-éileamh ar chomhpháirteanna leictreonacha níos forbartha agus níos iontaofa ag fás, beidh ról na gcomhpháirteanna speisialaithe cosúil leis an SiC Ceramic Chuck ag éirí níos tábhachtaí maidir le héifeachtacht agus cáilíocht na bpróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra a chinntiú.