Pláta Iompróir Graifíte RTP

Is é Pláta Iompróir Grafite RTP Semicorex an réiteach foirfe d'iarratais próiseála wafer leathsheoltóra, lena n-áirítear fás epitaxial agus próiseáil láimhseála wafer. Tá ár dtáirge deartha chun friotaíocht teasa níos fearr agus aonfhoirmeacht theirmeach a thairiscint, ag cinntiú go bhfuil na híogairí epitaxy faoi réir na timpeallachta taiscí, le friotaíocht ard teasa agus creimeadh.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Gnéithe ár dtáirge graifít SiC-brataithe ard-íonachta, a thairgeann airíonna dáileadh teasa den scoth, a chinntíonn go bhfuil dromchla réidh ag an iompróir brataithe SiC, saor ó scoilteanna agus delamination. Tá ár bPláta Iompróir Graifíte RTP brataithe go mín le cairbíd sileacain, ag cinntiú go bhfuil an dromchla réidh agus saor ó aon lochtanna. Tá an táirge seo an-mharthanach i gcoinne glanadh ceimiceach crua agus tá sé deartha chun a chinntiú nach dtarlaíonn scoilteanna agus dílamination.
Cuirimid buntáiste praghais ar fáil nach féidir lenár n-iomaitheoirí a mheaitseáil, agus táimid tiomanta do bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.
Le ár pláta iompróra grafite RTP, is féidir leat a bheith cinnte go bhfuil feidhmíocht den scoth, friotaíocht teasa níos fearr, agus aonfhoirmeacht teirmeach. Tá an t-iompróir brataithe SiC deartha chun teocht ard a sheasamh agus tá sé an-resistant do ghlanadh ceimiceach, ag cinntiú go mairfidh sé ar feadh blianta fada. Tá ár dtáirge deartha freisin le bheith éasca le húsáid, rud a fhágann go bhfuil sé oiriúnach d'úsáideoirí nua agus taithí.
Ag Semicorex, táimid tiomanta do tháirgí agus seirbhísí ardchaighdeáin a sholáthar dár gcustaiméirí. Ní úsáidimid ach na hábhair is fearr, agus déantar ár gcuid táirgí a dhearadh chun na caighdeáin cháilíochta agus feidhmíochta is airde a chomhlíonadh. Ní haon eisceacht é ár bPláta Iompróir Graifíte RTP. Déan teagmháil linn inniu chun tuilleadh a fhoghlaim faoi conas is féidir linn cabhrú leat le do riachtanais phróiseála wafer leathsheoltóra.

Paraiméadair Phláta Iompróir Graifíte RTP

Príomh-Sonraíochtaí Cumhdach CVD-SIC
Airíonna SiC-CVD
Struchtúr Criostail	FCC β céim
Dlús	g/cm³	3.21
Cruas	Vickers cruas	2500
Méid Grán	μm	2~10
Íonacht Cheimiceach	%	99.99995
Cumas Teasa	J kg- 1 K-1	640
Teocht sublimation	℃	2700
Neart Felexural	MPa (RT 4 phointe)	415
Modal Óg	Gpa (lúb 4pt, 1300 ℃)	430
Leathnú Teirmeach (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Seoltacht theirmeach	(W/mK)	300

Gnéithe de Phláta Iompróir Grafite RTP

Graifít brataithe SiC ardíonachta
Friotaíocht teasa níos fearr & aonfhoirmeacht teirmeach
Criostail Fine SiC brataithe le haghaidh dromchla réidh
Ard-marthanacht i gcoinne glanadh ceimiceach
Tá an t-ábhar deartha sa chaoi is nach dtarlóidh scoilteanna agus delamination.