Iompróirí Wafer RTA SiC

Teicníc próiseála teirmeach is ea anáil theirmeach mear a úsáidtear go forleathan i ndéantúsaíocht leathsheoltóra. Ag baint úsáide as lampaí infridhearg halaigine mar fhoinse teasa, téann sé sliseog nó ábhair leathsheoltóra go tapa chuig teocht idir 300 ℃ agus 1200 ℃ le ráta téimh thar a bheith tapa, agus fuarú tapa ina dhiaidh sin. Is féidir le próiseas mear annealing teirmeach deireadh a chur le strus iarmharach agus lochtanna taobh istigh de sliseog agus ábhair leathsheoltóra, feabhas a chur ar cháilíocht an ábhair agus ar fheidhmíocht. Is iad iompróirí wafer RTA SiC an comhpháirt iompair fíor-riachtanach a úsáidtear go forleathan i bpróiseas RTA, ar féidir leo tacú go cobhsaí leis na hábhair wafer agus leathsheoltóra le linn oibriúcháin agus a chinntíonn éifeacht cóireála teirmeach comhsheasmhach.

Na buntáistí a bhaineann le hiompróirí wafer Semicorex RTA SiC

1. Neart meicniúil níos fearr agus cruas

Seachadann iompróirí wafer Semicorex RTA SiC neart meicniúil den scoth agus cruas agus tá siad in ann strusanna meicniúla éagsúla a sheasamh faoi dhálaí crua RTA agus iad ag fanacht cobhsaí agus buan tríthoiseach. Leis an cruas den scoth, tá dromchla na n-iompróirí wafer RTA SiC níos lú seans maith go scratches, a sholáthraíonn dromchla réidh réidh tacaíochta a chuireann cosc ​​​​go héifeachtach le damáiste wafer de bharr scratches iompróra.

2. Seoltacht teirmeach eisceachtúil

Tá seoltacht theirmeach eisceachtúil ag iompróirí wafer Semicorex RTA SiC, rud a chuireann ar a gcumas teas a scaipeadh agus a sheoladh go héifeachtach. Is féidir leo rialú teochta beacht a sheachadadh le linn próiseála teirmeach tapa, rud a íslíonn go mór an baol damáiste teirmeach do sliseog agus a fheabhsaíonn aonfhoirmeacht agus comhsheasmhacht an phróisis annealaithe.

3. Cobhsaíocht theirmeach den scoth

Tá leáphointe timpeall 2700°C ag cairbíd sileacain agus coinníonn sé cobhsaíocht den scoth ag teochtaí oibriúcháin leanúnacha 1350–1600°C. Tugann sé seo SemicorexIompróirí sliseog RTA SiCcobhsaíocht theirmeach níos fearr do choinníollacha oibriúcháin ardteochta RTA. Ina theannta sin, lena gcomhéifeacht íseal de leathnú teirmeach, is féidir le hiompróirí wafer Semicorex RTA SiC scoilteadh nó damáiste a sheachaint de bharr leathnú agus crapadh teirmeach míchothrom le linn timthriallta teasa agus fuaraithe tapa.

4. Feidhmíocht íseal-éillithe den scoth

Déanta as ard-íonachta a roghnaíodh go cúramachchomhdhúile sileacain, Gné iompróirí wafer Semicorex RTA SiC ábhar eisíontais íseal. A bhuí lena fhriotaíocht shuntasach cheimiceach, tá iompróirí sliseog Semicorex RTA SiC in ann creimeadh ó gháis phróisis a sheachaint le linn anáil theirmeach tapa, rud a íoslaghdaíonn an t-éilliú wafer de bharr na n-imoibreáin agus a chomhlíonann riachtanais dhian glaineachta na bpróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra.