Susceptor Wafer Cumhdach TaC

Is comhpháirt ríthábhachtach é Susceptor Wafer Cumhdach Semicorex TaC sa phróiseas fáis epitaxial chomhdhúile sileacain (SiC). Deartha le teicneolaíocht brataithe chun cinn, tá an susceptor seo déanta as graifít ardcháilíochta, ag soláthar struchtúr buan agus cobhsaí, agus tá sé brataithe le sraith de chomhdhúile tantalam. Cinntíonn meascán na n-ábhar seo gur féidir leis an Susceptor Wafer Coating TaC na teochtaí arda agus na timpeallachtaí imoibríocha atá tipiciúil in epitaxy SiC a sheasamh, agus ag an am céanna feabhas suntasach a chur ar cháilíocht na sraitheanna epitaxial.

Is ábhar ríthábhachtach é carbide sileacain sa tionscal leathsheoltóra, go háirithe in iarratais a éilíonn ardchumhacht, ard-minicíocht, agus cobhsaíocht theirmeach mhór, mar leictreonaic cumhachta agus feistí RF. Le linn phróiseas fáis epitaxial SiC, coinníonn an Susceptor Wafer Cumhdach TaC an tsubstráit go daingean i bhfeidhm, ag cinntiú dáileadh aonfhoirmeach teochta ar fud dhromchla an sliseog. Tá an comhsheasmhacht teochta seo ríthábhachtach chun sraitheanna epitaxial ardchaighdeáin a tháirgeadh, toisc go mbíonn tionchar díreach aige ar rátaí fáis criostail, aonfhoirmeacht, agus dlús lochtanna.

Feabhsaíonn an sciath TaC feidhmíocht an susceptor trí dhromchla cobhsaí, támh a sholáthar a íoslaghdaíonn éilliú agus a fheabhsaíonn friotaíocht teirmeach agus ceimiceach. Is é an toradh atá air seo ná timpeallacht níos glaine agus níos rialaithe d’epitaxy SiC, as a dtiocfaidh cáilíocht sliseog níos fearr agus toradh méadaithe.

Tá an TaC Coating Wafer Susceptor deartha go sonrach le húsáid i bpróisis déantúsaíochta leathsheoltóra chun cinn a éilíonn fás sraitheanna epitaxial SiC ardchaighdeáin. Úsáidtear na próisis seo go coitianta i dtáirgeadh leictreonaic cumhachta, feistí RF, agus comhpháirteanna ardteochta, áit a dtugann airíonna teirmeacha agus leictreacha níos fearr SiC buntáistí suntasacha thar ábhair leathsheoltóra traidisiúnta mar sileacain.

Go háirithe, tá an Susceptor Wafer Cumhdach TaC feiliúnach go maith le húsáid in imoibreoirí ardteochta taisce ceimiceach gaile (CVD), áit ar féidir leis coinníollacha crua epitaxy SiC a sheasamh gan cur isteach ar fheidhmíocht. Mar gheall ar a chumas torthaí comhsheasmhacha iontaofa a sholáthar tá sé ina chomhpháirt riachtanach i dtáirgeadh feistí leathsheoltóra den chéad ghlúin eile.

Is dul chun cinn suntasach é Susceptor Wafer Cumhdach Semicorex TaC i réimse an fháis epitaxial SIC. Trí fhriotaíocht theirmeach agus cheimiceach chomhdhúile tantalam a chomhcheangal le cobhsaíocht struchtúrach graifít, cuireann an susceptor seo feidhmíocht gan sárú ar fáil i dtimpeallachtaí ardteochta, ard-strus. Mar gheall ar a chumas cáilíocht na sraitheanna epitaxial SiC a fheabhsú agus éilliú a íoslaghdú agus a saolré a fhadú, is uirlis fhíorluachmhar é do mhonaróirí leathsheoltóra atá ag iarraidh feistí ardfheidhmíochta a tháirgeadh.