Páirteanna Leathmhóin Brataithe SiC

Is gné riachtanach de phróisis epitaxy iad Páirteanna Halfmoon, atá brataithe le carbíd sileacain préimhe (SiC), mar iompróirí wafer agus seoltóirí teirmeacha araon. Soláthraíonn a gcruth leath-ghealach speisialaithe modh le chéile i bhfoirm sorcóireach a fheidhmíonn mar dhaingneán laistigh d'imoibreoirí epitaxial. Laistigh den timpeallacht seomra nó imoibreora, ní mór na sliseog a dhaingniú ach freisin a théamh go haonfhoirmeach agus an taisceadh scannán tanaí criticiúil ar siúl. Soláthraíonn na Páirteanna Halfmoon brataithe SiC an méid ceart tacaíochta meicniúil, cobhsaíocht theirmeach, agus marthanacht cheimiceach chun na tascanna seo a dhéanamh.

GraifítIs é an t-ábhar tsubstráit do na Páirteanna Halfmoon agus a roghnaíodh mar gheall ar a seoltacht theirmeach an-mhaith agus a mheáchan agus a neart réasúnta íseal. Tá dromchla na graifíte clúdaithe le dromchla dlúth íonachta ard-íonachta ceimiceach de chomhdhúile sileacain taiscthe (CVD SiC) chun a bheith láidir i gcoinne na timpeallachtaí ionsaitheach a bhaineann le fás epitaxial. Feabhsaíonn an sciath SiC cruas dromchla na gcodanna agus soláthraíonn sé friotaíocht do gháis imoibríocha cosúil le hidrigin agus clóirín, ag soláthar cobhsaíocht mhaith fadtéarmach agus éilliú an-teoranta le linn na próiseála. Oibríonn Graphite agus SiC le chéile sna Páirteanna Halfmoon chun an chothromaíocht cheart de neart meicniúil a sholáthar le hairíonna ceimiceacha agus teirmeacha.

Ceann de na róil is tábhachtaí atá ag anSiC brataitheBuntáiste tábhachtach eile is ea glaineacht. Ós rud é go bhfuil epitaxy an-íogair d'éilliú, trí úsáid a bhaint as sciath CVD SiC d'íonacht an-ard, cuireann sé deireadh le héilliú ón seomra imoibrithe. Laghdaíonn sé seo giniúint na gcáithníní agus cosnaíonn sé na sliseog ó lochtanna. Mar gheall ar laghdú méide leanúnach ar chéimseata feiste agus caolú leanúnach ar cheanglais an phróisis epitaxial tá rialú éillithe ríthábhachtach chun cáilíocht táirgthe chomhsheasmhach a chinntiú.

Feidhm chomh tábhachtach céanna de na Páirteanna Halfmoon ná seoladh teirmeach. I seomra epitaxial, tá seoltacht teirmeach aonfhoirmeach, seasta-stáit ríthábhachtach chun scannáin tanaí ardchaighdeáin a fháil. Tá an croí graifít an-oiriúnach do sheoltacht theirmeach chun cabhrú leis an bpróiseas téimh agus dáileadh cothrom teochta a éascú. Cosnaíonn an sciath SiC an croí ó thuirse teirmeach, díghrádú agus éilliú sa phróiseas. Mar sin, is féidir na sliseoga a théamh go haonfhoirmeach chun aistriú teochta aonfhoirmeach a bhaint amach agus tacú le forbairt sraitheanna epitaxial saor ó locht. I bhfocail eile, le haghaidh próisis fáis scannáin tanaí a éilíonn coinníollacha teirmeacha sonracha, cuireann na Páirteanna Halfmoon brataithe SiC éifeachtúlacht agus iontaofacht araon. Is gné lárnach de na comhpháirteanna é fad saoil. Is éard atá i Epitaxy go minic ná rothaíocht theirmeach i dteocht ardaithe níos mó ná an méid is féidir le hábhair tógála coitianta a fhulaingt gan díghrádú.

Buntáiste tábhachtach eile is ea glaineacht. Ós rud é go bhfuil epitaxy an-íogair d'éilliú, trí úsáid a bhaint as sciath CVD SiC d'íonacht an-ard, cuireann sé deireadh le héilliú ón seomra imoibrithe. Laghdaíonn sé seo giniúint na gcáithníní agus cosnaíonn sé na sliseog ó lochtanna. Mar gheall ar laghdú méide leanúnach ar chéimseata feiste agus caolú leanúnach ar cheanglais an phróisis epitaxial tá rialú éillithe ríthábhachtach chun cáilíocht táirgthe chomhsheasmhach a chinntiú.

Ní hamháin go dtugann Páirteanna Halfmoon brataithe Semicorex SiC aghaidh ar imní glaineachta, tá siad solúbtha freisin agus is féidir iad a choigeartú chun cumraíochtaí córais epitaxial éagsúla a fheistiú. Is féidir iad a mhonarú freisin i toisí áirithe, tiús áirithe brataithe, agus dearaí/caoinfhulaingt a luíonn go hipitéiseach don trealamh dian. Cuidíonn an tsolúbthacht seo lena chinntiú gur féidir leis an trealamh atá ann cheana comhtháthú gan uaim agus an comhoiriúnacht próisis is fabhraí a choinneáil.