Bád Wafer Ceirmeach SiC

Tháinig Bád Wafer Ceirmeach Semicorex SiC chun cinn mar theicneolaíocht chumasúcháin ríthábhachtach, ag soláthar ardán gan staonadh do phróiseáil ardteochta agus ag an am céanna ag cosaint sláine sliseog agus ag cinntiú an íonachta atá ag teastáil le haghaidh feistí ardfheidhmíochta. Tá sé in oiriúint do na tionscail leathsheoltóra agus fótavoltach atá bunaithe ar chruinneas. Éilíonn gach gné de phróiseáil sliseog, ó sil-leagan go idirleathadh, rialú mionchúiseach agus timpeallachtaí íona. Táimid ag Semicorex tiomanta do Bád Wafer Ceirmeach SiC ardfheidhmíochta a mhonarú agus a sholáthar a chomhcheanglaíonn cáilíocht le cost-éifeachtúlacht.**

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Déanann Bád Wafer Ceirmeach Semicorex SiC iad féin a idirdhealú trí mheascán uathúil d'airíonna ábhartha a fhágann go bhfuil sé an-oiriúnach do dhéine déantúsaíochta leathsheoltóra agus fótavoltach:

Cobhsaíocht Ardteochta gan staonadh:Is minic go mbíonn teochtaí foircneacha i gceist le próiseáil wafer a bhrúnn gnáthábhair chun a dteorainneacha. Léiríonn Bád Wafer Ceirmeach SiC friotaíocht ardteochta eisceachtúil, ag cothabháil a sláine struchtúrach agus a n-airíonna meicniúla fiú ag teochtaí os cionn 1650 ° C (3000 ° F). Ligeann sé seo iad a úsáid i bpróisis ríthábhachtacha amhail idirleathadh agus anáil, áit a bhfuil rialú beacht teochta agus cobhsaíocht sliseog ríthábhachtach.

Fortress Dochreidte i gCoinne na Creimthe:Is dúshlán suntasach iad na ceimiceáin chrua agus na substaintí ionsaitheacha a úsáidtear i ndéanamh leathsheoltóra agus fótavoltach do shláine an ábhair. Léiríonn Bád Wafer Ceirmeach SiC friotaíocht creimeadh níos fearr i gcomparáid leis an gcuid is mó de mhiotail agus criadóireacht eile, in ainneoin nochtadh fada do raon leathan aigéid, tuaslagóirí, salainn agus comhdhúile orgánacha. Cinntíonn an táimhe seo fad saoil an bháid, cuireann sé cosc ar éilliú ó dhíghrádú ábhair, agus cosnaíonn sé íonacht na gcéimeanna ríthábhachtacha próisis.

Glaineacht Gan Dícheall le haghaidh Íonachta Neamh-chomhréiteach:Tá sé ríthábhachtach dromchlaí sliseog pristine a chothabháil chun táirgeacht agus feidhmíocht ard gléas a bhaint amach. Tá sé thar a bheith éasca é a ghlanadh de bharr dromchla neamh-scagach Bád Wafer Ceirmeach SiC agus a fhriotaíocht in aghaidh ionsaí ceimiceacha. Baintear éillithe go héasca, rud a chuireann cosc ar thras-éilliú idir ritheann an phróisis agus ag cinntiú an timpeallacht gan staonadh a theastaíonn le haghaidh feistí leathsheoltóra agus fótavoltach ardfheidhmíochta.

Athléimneacht i gCoinne Strus Teirmeach agus Meicniúla:Is minic go mbíonn athruithe tapa teochta agus láimhseáil mheicniúil i gceist le próiseáil wafer a d’fhéadfadh strus a chothú agus damáiste a dhéanamh d’ábhair so-ghabhálach. Cinntíonn airíonna meicniúla láidre Bád Wafer Ceirmeach SiC, lena n-áirítear cruas ard agus friotaíocht turrainge teirmeach eisceachtúil, a sláine struchtúrach fiú faoi choinníollacha éilitheacha. Laghdaíonn sé seo an baol ó ghiniúint cáithníní nó damáiste sliseog, ag cur le táirgeacht níos airde agus cáilíocht táirgí comhsheasmhach.

Iompar gan duillín le haghaidh beachtais gan stad:Tá láimhseáil chruinn wafer ríthábhachtach chun damáiste a chosc agus chun próiseáil chomhsheasmhach a chinntiú. Cruthaíonn lubricity dúchasach Bád Wafer Ceirmeach SiC agus comhéifeacht íseal frithchuimilte dromchla nádúrtha saor ó sciorradh. Ligeann sé seo gluaiseacht mín, rialaithe sliseog le linn luchtaithe agus díluchtaithe, rud a íoslaghdaíonn an baol scríobtha, scealaithe nó damáiste eile a d’fhéadfadh cur isteach ar shláine sliseog.