Bád Gréine Graifít PECVD

leathchorexBáid graifíte gréine PECVDatá déanta as cruinneas ard-íonachtagraifít iseastatach. Déantar meaisínithe beacht, cigireacht tríthoiseach, agus tástáil feidhmíochta leictreachais ar gach bád graifíte gréine PECVD ó Semicorex chun feidhmíocht chobhsaí a chinntiú i dtimpeallachtaí plasma ardteochta.

Le linn próiseála PECVD, iompraíonn bád graifíte gréine PECVD sliseog sileacain isteach sa seomra imoibrithe PECVD agus feidhmíonn sé mar an leictreoid atá ceangailte leis an soláthar cumhachta RF. Nuair a chuirtear voltas malartach i bhfeidhm idir plátaí bád in aice láimhe, bunaítear réimse leictreach. Faoi thionchar an réimse leictrigh, téann na gáis imoibríocha (cosúil le silane SiH₄ agus amóinia NH₃) faoi urscaoileadh glow agus gineann siad plasma. Díscaoileann iain agus fréamhacha saor in aisce sa phlasma na gáis réamhtheachtaithe, ag foirmiú iain sileacain (Si) agus nítrigine (N). Comhcheanglaíonn na hiain seo chun móilíní nítríde sileacain (Si₃N₄) a fhoirmiú, a thaisctear ansin ar dhromchla an wafer sileacain chun scannáin thanaí a dhéanamh.

1. Cobhsaíocht theirmeach eisceachtúil

Le comhéifeacht leathnaithe teirmeach gar do na sliseog sileacain, SemicorxBád graifít gréine PECVDathrú diomaibhseach tríthoiseach ar théamh, rud a sheachnaíonn go hiontaofa damáiste de bharr strus teirmeach do na sliseog.

2. Seoltacht leictreach agus teirmeach níos fearr

Tá seoltacht leictreach den scoth ag báid ghréine ghréine Semicorex PECVD, rud a chinntíonn seoladh tapa ar dháileadh reatha RF agus aonfhoirmeach réimse leictreach, atá tairbheach do ghiniúint plasma cobhsaí agus sil-leagan aonfhoirmeach sileacain wafer. Ina theannta sin, éascaíonn a seoltacht theirmeach níos fearr fuarú agus téamh tapa, ag cur feabhas ar éifeachtúlacht táirgthe agus ag cosc ​​ar róthéamh áitiúil tionchar a imirt ar cháilíocht na sil-leagan.

3. Cobhsaíocht cheimiceach láidir

A bhuíochas le húsáid ábhar de ghrád préimhe, is lú an seans go n-imoibreoidh bád graifíte gréine Semicorex PECVD le gáis imoibríocha agus plasma. Coscann an tréith seo go mór dáileadh míchothrom réimse leictrigh de bharr creimeadh, dífhoirmithe, nó sil-leagan neamhíonachta sa bhád graifíte, rud a chinntíonn cobhsaíocht an phróisis sil-leagan agus cáilíocht dromchla na sliseog sileacain.

4. Neart meicniúil den scoth

Leis an neart meicniúil den scoth, is féidir le bád graifít gréine Semicorex PECVD meáchan ualaí sliseog ard-toirte a láimhseáil go comhchuí. Is féidir leo an strus meicniúil a ghintear le linn luchtú agus iompair a sheasamh ar feadh i bhfad gan dífhoirmiú nó briseadh go héasca.

5. Comhsheasmhacht tríthoiseach den scoth

Baineann bád graifít gréine Semicorex PECVD amach cruinneas tríthoiseach eisceachtúil ar fud na gcomhpháirteanna go léir trí mheaisínithe beachtas. Coinníonn sé an wafer sileacain i suíomh seasta le linn na sil-leagan, rud a chinntíonn sil-leagan aonfhoirmeach agus comhoiriúnacht le táirgeadh uathoibrithe.