Tá chucks leictreastatacha (ESCanna) tar éis éirí fíor-riachtanach i ndéantúsaíocht leathsheoltóra agus i dtáirgeadh taispeáint painéil chomhréidh, ag tairiscint modh an-inrialaithe saor ó dhamáiste chun sliseoga agus foshraitheanna íogair a shealbhú agus a shuíomh le linn céimeanna ríthábhachtacha ......
Leigh Nios moLéiríonn forbairt 3C-SiC, polytype suntasach de chomhdhúile sileacain, dul chun cinn leanúnach na heolaíochta ábhar leathsheoltóra. Sna 1980í, Nishino et al. ar dtús baineadh amach scannán 3C-SiC 4 µm tiubh ar fhoshraith sileacain ag baint úsáide as sil-leagan ceimiceach gaile (CVD)[1], ag leagan an......
Leigh Nios moIs comhpháirteanna ríthábhachtacha iad sraitheanna tiubh, ard-íonachta chomhdhúile sileacain (SiC), a sháraíonn 1mm de ghnáth, in iarratais ardluacha éagsúla, lena n-áirítear déantúsaíocht leathsheoltóra agus teicneolaíochtaí aeraspáis. Scrúdaíonn an t-alt seo an próiseas Taistil Cheimiceach Gaile (......
Leigh Nios moTá a gcuid buntáistí uathúla féin agus cásanna infheidhme ag sileacain criostail aonair agus sileacain ilchriostalach. Tá sileacan criostail aonair oiriúnach do tháirgí leictreonacha ardfheidhmíochta agus do mhicrileictreonaic mar gheall ar a airíonna leictreacha agus meicniúla den scoth. Ar an láim......
Leigh Nios moSa phróiseas ullmhúcháin wafer, tá dhá nasc lárnach ann: is é ceann amháin ullmhú an tsubstráit, agus is é an ceann eile an próiseas epitaxial a chur i bhfeidhm. Is féidir an tsubstráit, atá déanta go cúramach d'ábhar leathsheoltóra criostail aonair, a chur go díreach isteach sa phróiseas déantúsaío......
Leigh Nios mo