Bád Wafer Silicon Carbide

I ndéantúsaíocht leathsheoltóra, is éard atá i gceist le ocsaídiú an wafer a chur i dtimpeallacht ardteochta ina sreabhann ocsaigin trasna an dromchla wafer chun ciseal ocsaíd a dhéanamh. Cosnaíonn sé seo an wafer ó eisíontais cheimiceacha, cuireann sé cosc ​​ar sceitheadh ​​​​srutha ó dhul isteach sa chuaird, cuireann sé cosc ​​ar idirleathadh le linn ionchlannú ian, agus cuireann sé cosc ​​​​ar sciorradh wafer le linn eitseála, ag cruthú scannán cosanta ar an dromchla wafer. Is foirnéis ocsaídiúcháin an trealamh a úsáidtear sa chéim seo. Áirítear ar na príomhchodanna laistigh den seomra imoibrithe bád wafer, bonn, feadáin línéar foirnéise, feadáin foirnéise istigh, agus sciath inslithe teasa. Mar gheall ar an teocht oibriúcháin ard, tá na ceanglais feidhmíochta do na comhpháirteanna laistigh den seomra imoibrithe ard freisin.

Tá anbád sliseoga úsáidtear mar iompróir le haghaidh iompair agus próiseála wafer. Ba cheart go mbeadh buntáistí aige ar nós comhtháthú ard, iontaofacht ard, airíonna frith-statacha, friotaíocht ardteochta, friotaíocht caitheamh, friotaíocht le dífhoirmiú, dea-chobhsaíocht, agus saol seirbhíse fada. Ós rud é go bhfuil an teocht ocsaídiúcháin wafer thart ar idir 800 ℃ agus 1300 ℃, agus go bhfuil na ceanglais maidir le hábhar na n-eisíontais mhiotalacha sa chomhshaol thar a bheith dian, ní hamháin go mbeadh airíonna teirmeacha, meicniúla agus ceimiceacha den scoth ag comhpháirteanna tábhachtacha mar an bád wafer, ach freisin go bhfuil ábhar eisíontais mhiotalacha an-íseal acu. Bunaithe ar an tsubstráit, is féidir iad a roinnt i mbáid wafer Grianchloch, báid wafer ceirmeacha chomhdhúile sileacain, etc., áfach, le dul chun cinn na nóid phróisis faoi bhun 7nm agus leathnú fuinneoga próisis ardteochta, tá báid Grianchloch traidisiúnta ag éirí neamhleor de réir a chéile i dtéarmaí cobhsaíocht theirmeach, rialú cáithníní, agus bainistíocht ar feadh an tsaoil. Tá báid chomhdhúile sileacain (SiC) ag athsholáthar réitigh Grianchloch traidisiúnta de réir a chéile.

1. Déantúsaíocht Leathsheoltóra

I bpróisis ardteochta déantúsaíochta sliseanna, mar shampla ocsaídiú, idirleathadh, taisceadh gaile ceimiceach (CVD), agus ionchlannú ian, úsáidtear báid SiC chun tacú le sliseoga sileacain, ag cinntiú go bhfanann na sliseoga cothrom ag teochtaí arda agus cosc ​​a chur ar mhí-ailíniú laitíse nó dífhoirmiúchán de bharr strus teirmeach, rud a ráthaíonn cruinneas agus feidhmíocht sliseanna.

2. Tionscal Fótavoltach

Tá neart meicniúil den scoth ag criadóireacht chomhdhúile sileacain, cobhsaíocht theirmeach, friotaíocht ardteochta, friotaíocht ocsaídiúcháin, friotaíocht turraing teirmeach, agus friotaíocht creimeadh ceimiceach, agus úsáidtear iad go forleathan i réimsí tóir ar nós miotalóireacht, innealra, fuinneamh nua, agus ábhair thógála ceimiceáin. Is leor a fheidhmíocht freisin le haghaidh próisis teirmeacha i ndéantúsaíocht fhótavoltach, mar idirleathadh, LPCVD (sistíocht gaile ceimiceach ísealbhrú), agus PECVD (sistíocht gaile ceimiceach plasma) do chealla TOPcon. I gcomparáid le hábhair Grianchloch traidisiúnta, cuireann ábhair ceirmeacha chomhdhúile sileacain a úsáidtear chun tacaí bád, báid bheaga, agus táirgí feadánacha neart níos airde, cobhsaíocht theirmeach níos fearr, agus gan aon dífhoirmiúchán faoi theocht ard. Tá a saolré níos mó ná cúig huaire chomh maith le Grianchloch, ag laghdú go suntasach costais oibriúcháin agus caillteanais fuinnimh de bharr downtime cothabhála. Mar thoradh air seo tá buntáiste costais soiléir, agus tá na hamhábhair ar fáil go forleathan.

3. Tionscal Leathsheoltóra Tríú Glúin

I ndlísheomraí imoibrithe taiscí gaile ceimiceach miotail-orgánach (MOCVD), úsáidtear báid chomhdhúile sileacain chun tacú le foshraitheanna sapphire, in ainneoin timpeallachtaí gáis creimneach mar amóinia (NH3), ag tacú le fás epitaxial na n-ábhar leathsheoltóra tríú glúin mar nítríd ghailliam (GaN), agus feabhas a chur ar éifeachtacht lonrúil agus feidhmíocht sliseanna stiúir. I bhfás criostail aonair chomhdhúile sileacain, feidhmíonn báid chomhdhúile sileacain mar thacaí criostail síl i bhfoirnéisí fáis criostail aonair chomhdhúile sileacain, in ainneoin timpeallacht creimneach ardteochta sileacain leáite, ag soláthar tacaíocht chobhsaí d'fhás criostail aonair chomhdhúile sileacain, agus ag cur chun cinn ullmhú criostail aonair chomhdhúile sileacain ardchaighdeáin.

Soláthraíonn Semicorex criadóireacht SiC ardchaighdeáinbáid sliseog. Déantar ár gcuid táirgí a innealtóireacht chun cobhsaíocht theirmeach níos fearr, saol seirbhíse leathnaithe, agus comhsheasmhacht próisis eisceachtúil a sheachadadh. Le haghaidh réitigh saincheaptha nó faisnéis theicniúil bhreise, bíodh leisce ort teagmháil a dhéanamh lenár bhfoireann innealtóireachta.

Fón: +86-13567891907

Ríomhphost: sales@semicorex.com