Míniú Mionsonraithe ar Theicneolaíocht Phróisis CVD SiC Leathsheoltóra (Cuid. Ⅱ)

III. Gáis a Úsáidtear i Sil-leagan Ceimiceach Gaile (CVD)

Sa phróiseas sil-leagan ceimiceach gaile (CVD) le haghaidhCVD SiC, ar a dtugtar freisinsoladach SiC, cuimsíonn na gáis a úsáidtear go príomha gáis imoibreáin agus gáis iompróra. Soláthraíonn gáis imoibrithe adaimh nó móilíní don ábhar taiscthe, agus úsáidtear gáis iompróra chun an timpeallacht imoibrithe a chaolú agus a rialú. Seo thíos roinnt gáis CVD a úsáidtear go coitianta:

1. Gáis Foinse Carbóin: Úsáidtear é chun adaimh nó móilíní carbóin a sholáthar. I measc na ngás foinse carbóin a úsáidtear go coitianta tá meatán (CH4), eitiléin (C2H4), agus aicéitiléine (C2H2).

2. Gáis Foinse Sileacain: Úsáidtear é chun adaimh nó móilíní sileacain a sholáthar. I measc na ngás foinse sileacain a úsáidtear go coitianta tá dimethylsilane (DMS, CH3SiH2) agus silane (SiH4).

3. Gáis Foinse Nítrigine: Úsáidtear é chun adaimh nó móilíní nítrigine a sholáthar. I measc na ngás foinse nítrigine a úsáidtear go coitianta tá amóinia (NH3) agus nítrigin (N2).

4. Hidrigin (H2): Úsáidtear mar ghníomhaire laghdaithe nó foinse hidrigine, cuidíonn sé le láithreacht neamhíonachtaí cosúil le ocsaigin agus nítrigin a laghdú le linn an phróisis taiscí agus déanann sé airíonna an scannáin tanaí a choigeartú.

5. Gáis Támha Úsáidtear iad seo mar gháis iompróra chun na gáis imoibreáin a chaolú agus chun timpeallacht thámh a sholáthar. I measc na ngás támha a úsáidtear go coitianta tá argón (Ar) agus nítrigin (N2).

Is gá an teaglaim gháis chuí a roghnú bunaithe ar an ábhar taiscthe sonrach agus ar an bpróiseas sil-leagan. Ní mór paraiméadair cosúil le ráta sreafa gáis, brú, agus teocht le linn an phróisis taisce a rialú agus a choigeartú de réir na gceanglas iarbhír. Ina theannta sin, is saincheisteanna tábhachtacha iad oibriú sábháilte agus cóireáil dramhgháis le breithniú i bpróisis sil-leagan ceimiceach gaile (CVD).

IV. Buntáistí agus Míbhuntáistí a bhaineann le Sil-leagan Ceimiceach Gaile (CVD)

Is teicníc ullmhúcháin scannán tanaí é sil-leagan ceimiceach gaile (CVD) agus tá buntáistí agus míbhuntáistí éagsúla ag baint leis. Seo thíos buntáistí agus míbhuntáistí ginearálta CVD:

1. Buntáistí

(1) Ard-íonacht agus Aonfhoirmeacht

Is féidir le CVD ábhair scannáin tanaí ard-íonachta a dháileadh go haonfhoirmeach a ullmhú le aonfhoirmeacht ceimiceach agus struchtúrach den scoth.

(2) Rialú Beacht agus Atrialltacht

Ligeann CVD do rialú beacht ar choinníollacha sil-leagan, lena n-áirítear paraiméadair cosúil le teocht, brú, agus ráta sreafa gáis, rud a fhágann go bhfuil próiseas sil-athdhéanta an-athdhéanta.

(3) Ullmhú Struchtúir Choimpléasc

Tá CVD oiriúnach chun ábhair scannáin tanaí a ullmhú le struchtúir chasta, mar shampla scannáin ilchiseal, nanastruchtúir agus heterostruchtúir.

(4) Clúdach Mór-Limistéar

Is féidir CVD a thaisceadh ar limistéir mhóra tsubstráit, rud a fhágann go bhfuil sé oiriúnach le haghaidh sciath nó ullmhú limistéar mór. (5) Inoiriúnaitheacht d'Ábhair Éagsúla

Tá sil-leagan ceimiceach gaile (CVD) inoiriúnaithe d'ábhair éagsúla, lena n-áirítear miotail, leathsheoltóirí, ocsaídí, agus ábhair atá bunaithe ar charbón.

2. Míbhuntáistí

(1) Castacht agus Costas Trealaimh

Tá trealamh CVD casta go ginearálta, a éilíonn costais arda infheistíochta agus cothabhála. Tá trealamh CVD ard-deireadh costasach go háirithe.

(2) Próiseáil Ardteochta

De ghnáth éilíonn CVD coinníollacha ardteochta, rud a d'fhéadfadh teorainn a chur le roghnú roinnt ábhar tsubstráit agus strus teirmeach nó céimeanna annealaithe a thabhairt isteach.

(3) Teorainneacha Ráta Taiscí

Is iondúil go mbíonn rátaí sil-leagan CVD íseal, agus b’fhéidir go dteastódh níos mó ama chun scannáin níos tiús a ullmhú.

(4) Ceanglas maidir le Coinníollacha Ardfholúis

De ghnáth éilíonn CVD coinníollacha arda bhfolús chun cáilíocht agus rialú an phróisis sil-leagan a chinntiú.

(5) Cóireáil Gáis Dramhaíola

Gineann CVD dramhaíl gháis agus substaintí díobhálacha, óna dteastaíonn cóireáil agus astaíochtaí cuí.

Go hachomair, tá buntáistí ag baint le sil-leagan ceimiceach gaile (CVD) maidir le hábhair scannáin tanaí ard-íonachta, ard-aonfhoirmeacha a ullmhú agus tá sé oiriúnach do struchtúir chasta agus do chlúdach mór-limistéar. Mar sin féin, tá roinnt míbhuntáistí ag baint leis freisin, amhail castacht agus costas trealaimh, próiseáil ardteochta, agus teorainneacha sa ráta taisce. Dá bhrí sin, tá gá le próiseas roghnúcháin cuimsitheach le haghaidh feidhmeanna praiticiúla.

Cuireann Semicorex ardchaighdeán ar fáilCVD SiCtáirgí. Má tá aon fhiosrúcháin agat nó má tá sonraí breise uait, ná bíodh drogall ort dul i dteagmháil linn.

Fón teagmhála # +86-13567891907

Ríomhphost: sales@semicorex.com