ESC Chuck

Úsáideann Semicorex ESC Chuck fórsaí leictreastatacha chun rialú beacht a choinneáil ar shuíomh an sliseog, ag cinntiú ardchruinneas agus in-atrialltacht i dtimpeallachtaí déantúsaíochta leathsheoltóra. Mar gheall ar dhearadh an chuck ESC, in éineacht lena roghnú ábhar láidir agus a thoisí inoiriúnaithe, is uirlis ilúsáideach agus riachtanach é i bpróisis mar eitseáil, sil-leagan agus ionchlannú ian.

Oibríonn chuck ESC trí réimse leictreastatach ardvoltais a chur i bhfeidhm idir leictreoidí an chuck agus an wafer, rud a chruthaíonn fórsa tarraingteach a choinníonn an wafer i bhfeidhm. Tá an wafer, déanta go hiondúil de shileacan nó de chomhdhúile sileacain, daingnithe ag an bhfórsa seo, rud a cheadaíonn oibríochtaí beachta i dtimpeallachtaí ardfholús. Cuireann an córas seo deireadh leis an ngá atá le clampáil mheicniúil nó le folúschucking, rud a fhéadfaidh ábhar salaithe a thabhairt isteach nó an wafer a shaobhadh. Trí úsáid a bhaint as chuck ESC, is féidir le monaróirí timpeallacht níos glaine, níos cobhsaí a bhaint amach do phróisis mhonaraithe íogair, rud a fhágann go dtiocfaidh táirgeacht níos airde agus torthaí níos comhsheasmhaí.

Ceann de na príomhbhuntáistí a bhaineann le teicneolaíocht ESC ná a chumas greim daingean a choinneáil ar an sliseog agus an fórsa á dháileadh go cothrom trasna a dhromchla. Cinntíonn sé seo go bhfanann an wafer cothrom agus cobhsaí, rud atá ríthábhachtach chun eitseáil nó sil-leagan aonfhoirmeach a bhaint amach, go háirithe i bpróisis ina bhfuil gá le cruinneas submicron. Ligeann toisí inoiriúnaithe an chuck ESC dó freastal ar sliseoga de mhéideanna éagsúla, ó sliseog caighdeánach 200mm agus 300mm go méideanna speisialaithe neamhchaighdeánacha a úsáidtear i dtaighde agus i bhforbairt nó i dtáirgeadh feistí leathsheoltóra nideoige.

Roghnaítear na hábhair a úsáidtear i dtógáil chuck ESC go cúramach chun a chinntiú go bhfuil siad comhoiriúnach leis na timpeallachtaí crua a fhaightear go hiondúil i bpróiseáil leathsheoltóra. Úsáidtear alúmana criadóireachta ard-íonachta mar gheall ar a n-airíonna inslithe leictreacha den scoth, cobhsaíocht theirmeach, agus friotaíocht creimeadh plasma. Ligeann na hairíonna seo don chuck feidhmiú go héifeachtach i gcoinníollacha ardteochta agus ardfholús, ag soláthar an marthanacht agus an iontaofacht atá ag teastáil le haghaidh úsáide fadtéarmach i dtimpeallacht seomra glan.

Is buntáiste suntasach eile de chucks ESC é an saincheaptha. De réir riachtanais shonracha phróiseas monaraithe leathsheoltóra, is féidir toisí an chuck, cumraíochtaí leictreoid, agus comhdhéanamh ábhair a shaincheapadh chun freastal ar riachtanais uathúla an trealaimh agus na sliseog atá á bpróiseáil. Cibé an bhfuil eitseáil plasma, sil-leagan ceimiceach gaile (CVD), nó sil-leagan gaile fisiceach (PVD) i gceist leis an bhfeidhmchlár, is féidir an chuck ESC a innealtóireacht chun an fheidhmíocht a bharrfheabhsú agus chun sláine an wafer a chothabháil le linn próiseála.