Cad é an sil-leagan ceimiceach gaile?

Is teicneolaíocht sciath é deascadh gaile ceimiceach (CVD) a úsáideann substaintí gásacha nó galacha chun imoibrithe ceimiceacha a dhéanamh sa chéim gáis nó ag comhéadan gás-soladach chun substaintí soladacha a thaisceadh ar dhromchla an tsubstráit a ghiniúint, rud a chruthaíonn scannáin soladacha ardfheidhmíochta. Is é croílár CVD ná réamhtheachtaithe gásacha a iompar isteach i seomra imoibrithe, áit a ngineann imoibrithe ceimiceacha táirgí soladacha a thaisceadh ar an tsubstráit, agus sceitear gáis seachtháirgí ón gcóras.

Próiseas imoibrithe CVD 

1.Seachadann gás iompróra réamhtheachtaithe imoibrithe isteach sa seomra imoibrithe. Sula sroicheann siad an tsubstráit, féadfaidh na gáis imoibrithe imoibrithe aonchineálacha gáis-chéim a dhéanamh sa phríomhshreabhadh gáis, rud a ghintear roinnt táirgí idirmheánacha agus braislí.

1.Seachadann gás iompróra réamhtheachtaithe imoibrithe isteach sa seomra imoibrithe. Sula sroicheann siad an tsubstráit, féadfaidh na gáis imoibrithe imoibrithe aonchineálacha gáis-chéim a dhéanamh sa phríomhshreabhadh gáis, rud a ghintear roinnt táirgí idirmheánacha agus braislí.

3. Téann na móilíní asaithe faoi imoibrithe dromchla ilchineálacha ar dhromchla an tsubstráit, mar dhianscaoileadh, laghdú, ocsaídiú, etc., chun táirgí soladacha (adaimh scannáin) agus seachtháirgí gásacha a ghiniúint.

Déanann adaimh táirge 4.Solid núicléasú ar an dromchla agus feidhmíonn siad mar phointí fáis, ag leanúint ar aghaidh ag gabháil adaimh imoibriúcháin nua trí idirleathadh dromchla, ag baint amach fás oileán an scannáin agus ar deireadh comhleá isteach i scannán leanúnach.

5. Na seachtháirgí gásacha ginte ag an imoibriú dí-asorb as an dromchla, idirleata ar ais isteach sa phríomhshreabhadh gáis, agus ar deireadh thiar scaoiltear amach as an seomra imoibriúcháin ag an gcóras bhfolús.

I measc na dteicnící coitianta CVD tá CVD teirmeach, CVD Feabhsaithe Plasma (PECVD), CVD Laser (LCVD), CVD Miotal-Orgánach (MOCVD), CVD Íseal-bhrú (LPCVD), agus Plasma CVD Ard-Dlús (HDP-CVD), a bhfuil a gcuid buntáistí féin acu agus is féidir iad a roghnú de réir éileamh ar leith.

Is féidir le teicneolaíochtaí CVD luí le foshraitheanna criadóireachta, gloine agus cóimhiotail. Agus tá sé oiriúnach go háirithe le haghaidh sil-leagan ar fhoshraitheanna casta agus féadann sé limistéir dhúshlánacha cosúil le réigiúin séalaithe, poill dalla agus dromchlaí inmheánacha a chumhdach go héifeachtach. Tá rátaí tapa sil-leagain ag CVD agus cumasaítear rialú beacht ar thiús scannáin. Tá na scannáin a tháirgtear trí CVD ar chaighdeán níos fearr, le aonfhoirmeacht den scoth, íonacht ard, agus greamaitheacht láidir leis an tsubstráit. Léiríonn siad freisin friotaíocht láidir le teocht ard agus íseal, chomh maith le caoinfhulaingt ar luaineachtaí teochta foircneacha.

roinntCVD SiCtáirgí arna soláthar ag Semicorex. Má tá suim agat, bíodh leisce ort teagmháil a dhéanamh linn.