CVD SiC Fin

De réir mar a leanann feistí leathsheoltóra ag forbairt i dtreo céimseataí níos lú agus leibhéil chomhtháthaithe níos airde, ní mór do threalamh próisis oibriú faoi choinníollacha atá ag éirí níos déine. Nochtadh eitseáil plasma, ard-seileadh, agus timpeallachtaí déantúsaíochta ardteochta comhpháirteanna seomra do strus mór teirmeach, gáis imoibríocha ionsaitheacha, agus buamáil ian ardfhuinnimh.

Chun aghaidh a thabhairt ar na dúshláin seo, tairgeann Semicorex CVD SiC Fin, comhpháirt chomhdhúile sileacain soladach ard-dlúis a mhonaraítear trí theicneolaíocht chun cinn Cheimiceach Taisce Gaile (CVD). Murab ionann agus gnáthbhratuithe scannáin tanaí SiC nach dtomhaiseann ach cúpla deich nó na céadta miocrón de ghnáth, is struchtúr chomhdhúile sileacain atá níos tiús agus níos dlúithe go hiomlán é CVD SiC Fin le tiús idir 500 μm agus 10,000 μm.

Cuireann an tógáil uathúil seo ar chumas marthanacht níos fearr, saol seirbhíse níos faide, agus feidhmíocht eisceachtúil i roinnt de na timpeallachtaí próiseála leathsheoltóra is déine.

Cad a Dhéanann CVD SiC Fin Difriúil?

Braitheann go leor comhpháirteanna leathsheoltóra ar ghraifít SiC-brataithe nó bratuithe SiC scannáin thanaí le haghaidh cosanta. Cé go n-éiríonn go maith leis na réitigh seo i gcoinníollacha próisis mheasartha, is minic go mbíonn gá le córas ábhair níos daingne de bharr nochtadh plasma dian agus timthriallta oibriúcháin sínte.

Déantar CVD SiC Fin a mhonarú mar chomhlacht chomhdhúile sileacain tiubh, ard-íonachta seachas sciath dromchla simplí. Soláthraíonn an struchtúr mar thoradh air:

Tiús ábhar i bhfad níos mó

Sláine struchtúrach níos airde

Friotaíocht níos fearr ar chreimeadh plasma

Saolré oibriúcháin níos faide

Cobhsaíocht tríthoiseach feabhsaithe

Riosca éillithe laghdaithe

Castacht déantúsaíochta tiubhComhpháirteanna CVD SiCi bhfad níos airde ná táirgí caighdeánacha scannán tanaí, go háirithe nuair a bhíonn céimseataí casta agus gnéithe beachtas á dtáirgeadh.

Struchtúr SiC Dlúth Ard-íonachta

Táirgeann an próiseas sil-leagan CVD ábhar chomhdhúile sileacain atá dlúth agus aonfhoirmeach le porosity íosta agus íonacht gan íoc.

I measc na bpríomhthréithe ábhartha tá:

• Comhdhéanamh SiC íonachta ultra-ard
• Ard-dlús agus porosity íseal
• Inertness ceimiceach den scoth
• Cobhsaíocht theirmeach den scoth
• Friotaíocht creimeadh níos fearr
• Giniúint cáithníní thar a bheith íseal

Tá na hairíonna seo ríthábhachtach do thimpeallachtaí déantúsaíochta leathsheoltóra nuair is féidir le héilliú próisis tionchar díreach a imirt ar fheidhmíocht gléas agus ar tháirgeacht táirgthe.

Feidhmíocht Eisceachtúil i dTimpeallacht Plasma

Gineann próisis eitseála nua-aimseartha speicis plasma an-imoibríocha atá in ann ionsaí a dhéanamh ar ghnáthábhair le himeacht ama. Caithfidh comhpháirteanna a nochtar do phlasma buamáil leanúnach a sheasamh agus cruinneas tríthoiseach agus sláine an dromchla a choinneáil.

CVD SiCSoláthraíonn Fin friotaíocht eisceachtúil do:

Ceimic plasma fluairín-bhunaithe

Timpeallachtaí eitseála clóirín-bhunaithe

Buamáil ian

Creimeadh ceimiceach

Rothaíocht theirmeach

Laghdaíonn a mhiocróstruchtúr dlúth díghrádú ábhair go mór agus cabhraíonn sé le coinníollacha próisis chobhsaí a choinneáil ar feadh na ritheanna táirgthe leathnaithe.

Déanann sé seo an t-ábhar an-luachmhar i ndéantúsaíocht chiorcaid chomhtháite ardchéime áit a bhfuil atrialltacht próisis agus aga fónaimh trealaimh ríthábhachtach.

Deartha le haghaidh Feidhmchláir Ultra-Ard-Teocht

Chomh maith le friotaíocht plasma, feidhmíonn CVD SiC Fin go han-mhaith faoi dhálaí foircneacha teirmeacha.

Tá cáil ar chomhdhúile sileacain as a chumas neart meicniúil agus cobhsaíocht tríthoiseach a choinneáil ag teochtaí a chuirfeadh dúshlán ar go leor ábhar innealtóireachta traidisiúnta.

I measc na mbuntáistí tá:

• Friotaíocht turraing teirmeach den scoth
• Leathnú teirmeach íseal
• Cobhsaíocht mheicniúil ard-teocht
• Friotaíocht in aghaidh dífhoirmiúchán teirmeach
• Iontaofacht fhadtéarmach i dtimpeallachtaí crua

Tá an saineolas teicniúil ag Semicorex atá riachtanach chun comhpháirteanna CVD SiC a mhonarú i raon leathan céimseataí, lena n-áirítear:

• Eití
• Fáinní
  
• Sciathanna
• Comhpháirteanna fócais
• Eilimintí dáileadh gáis
• Líneálacha seomra
• Páirteanna saincheaptha plasma-aghaidh

Feidhmchláir i Déantúsaíocht Leathsheoltóra

Úsáidtear comhpháirteanna CVD SiC Fin go forleathan ar fud an trealaimh déantúsaíochta leathsheoltóra, go háirithe i réimsí atá faoi lé coinníollacha próisis ionsaitheach.

I measc na n-iarratas tipiciúla tá:

Córais eitseála plasma

Seomraí etch tirim

Trealamh sil-leagain leathsheoltóra

Déantúsaíocht feistí loighic chun cinn

Táirgeadh gléas cuimhne

Próiseáil leathsheoltóra cumhachta

Déantúsaíocht leathsheoltóra cumaisc